[发明专利]研磨垫

说明书

技术领域

本发明是涉及一种研磨垫，特别是关于具备有用以研磨加工被研磨物 的研磨面的软质塑胶薄片、以及接合于研磨面的相反面侧的弹性体的研磨 垫。

背景技术

传统，在有关透镜、平行平面板、反射镜等的光学材料、以及硬盘用基 板、半导体用硅晶圆、液晶显示器用玻璃基板等的要求高精度的平坦性的 材料(被研磨物)的研磨加工上，是使用研磨垫的方式。而在研磨垫方面，则 可例举具备软质或硬质的塑胶薄片的研磨垫。

通常，软质塑胶薄片是，通过将软质塑胶溶解至水混和性的有机溶媒的 树脂溶液，涂布在薄片状的基材后，在水系凝固液中，将树脂凝固再生(湿式 成膜)所制造而成。因此，对以湿式成膜所制造而成的软质塑胶薄片而言，由 于具有伴随着树脂的凝固再生的发泡构造，所以能边贮留研磨液，边执行 研磨加工。但是，这种类型的研磨垫具有柔软性因而容易变形，所以被研 磨物的周缘部是较中央部还大，容易发生因研磨加工所造成的滑离 (roll-off)而使平坦性降低。此外，当使用硬质的塑胶薄片，以取代软质 塑胶薄片时，在研磨加工时所使用的研磨液中的研磨粒子，则会变得较为 容易在被研磨物的表面产生擦伤(损伤)。

为了抑制发生被研磨物的滑离或擦伤的情况，现有习知技术中揭示将 研磨垫作成两层构造或三层构造的技术。例如，日本特开2000-176825号 公报中揭示着研磨垫具有厚度是100μm以下的表面层，且在其背面具有第 二层，其中，表面层是比第二层更为软质的技术。此外，如日本特开 2002-307293号公报中则揭示了一种具有厚度是介于0.2-2.0mm，且弹性压 缩率是介于50-4％的表面层、积层在表面层的背面侧，厚度是介于 0.2-2.0mm，且弹性压缩率是介于2-0.1％的中间支撑层、以及积层在中间支 撑层的背面侧，厚度是介于0.15-2.0mm，且弹性压缩率是介于50-4％的背 面层的研磨垫的技术。

发明内容

发明所欲解决的问题

然而，在日本特开2000-176825号公报的技术中，通过将表面层制作 成比第二层更为软质，来抑制当研磨加工进行时所会发生的擦伤是可以预 期的，但是由于表面层的厚度为100μm以下，有可能因为厚度太薄，而无 法充分发挥表面层的柔软性。因此，对要求需要有高精度平坦性的被研磨物 而言，擦伤发生的抑制作用并不充分，因此较难以满足平坦性的要求。另 一方面，日本特开2002-307293号公报的技术中，虽然在滑离的改善上具 有一定效果，但是由于中间支撑层的硬度太大，所以会有研磨加工时有发 生擦伤的可能性。此外，因为即使定盘上具有凹凸，这个中间支撑层也无 法吸收，因而会损及被研磨物的平坦性，所以需要额外积层具有弹性的背 面层。就这样的三层构造的研磨垫来说，具有制造工程变得较为繁杂，且成 本不得不提高的问题存在。

本发明有鉴于上述情况，进而以提供一种可抑制被研磨物发生擦伤、滑 离的情形，并能使平坦性提升的研磨垫为课题。

为解决上述课题，本发明具备具有对被研磨物研磨加工用的研磨面的 软质塑胶薄片、以及与前述研磨面的相反面侧接合的弹性体，前述软质塑 胶薄片具有比前述弹性体还大的压缩率及较其还小的A硬度；前述弹性体 的压缩率是1％以上，且A硬度是90度以下；前述软质塑胶薄片及前述弹性 体的厚度皆为0.2mm以上。

在本发明中，由于软质塑胶薄片具有比弹性体还大的压缩率及较其还 小的A硬度，且厚度是0.2mm以上，所以在研磨加工时，可以发挥软质塑 胶薄片的柔软性，进而能抑制被研磨物产生擦伤(损伤)，并且由于弹性体 的压缩率是1％以上，A硬度是90度以下，所以可以利用将厚度设定为0.2mm 以上，即使在装设研磨垫的定盘表面上，具有凹凸，也会由弹性体所吸收，由 于在研磨加工时，柔软的软质塑胶薄片是由被弹性体所支撑，所以施加在 被研磨物上的按压力可被均等化，进而能抑制被研磨物发生滑离而提升了 平坦性。