[发明专利]发光器件及其制造方法有效
申请号: | 200880104504.0 | 申请日: | 2008-08-26 |
公开(公告)号: | CN101790801A | 公开(公告)日: | 2010-07-28 |
发明(设计)人: | 金鲜京;曹贤敬 | 申请(专利权)人: | LG伊诺特有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 顾晋伟;王春伟 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 器件 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本公开涉及一种发光器件及其制造方法。
背景技术
发光二极管(LED)是将电流转化成光的半导体发光器件。
由LED发出的光的波长根据制造LED所用的半导体材料来确 定。这是因为发出的光的波长对应于所述半导体材料的带隙,所述 带隙定义为价带中的电子与导带中的电子之间的能量差。
最近,LED的亮度逐渐增强,LED被用作显示器的光源、车辆 的光源和照明的光源。另外,通过使用磷光体材料或者将具有不同 颜色的LED结合,可以实现发白光的高效率LED。
同时,LED的亮度取决于各种条件,如有源层的结构、能将光 有效地提取到外部的光提取结构、芯片尺寸以及包围LED的模制元 件的种类。
发明内容
技术问题
实施方案提供一种具有新结构的发光器件及其制造方法。
实施方案还提供一种具有增强的光提取效率的发光器件及其制 造方法。
技术方案
在一个实施方案中,一种发光器件包括:第二导电型半导体层; 在所述第二导电型半导体层上的有源层;在所述有源层上的第一导 电型半导体层;和在所述第一导电型半导体层上的非导电半导体层, 所述非导电半导体层包括光提取结构。
在一个实施方案中,一种发光器件包括:第二导电型半导体层; 在所述第二导电型半导体层上的有源层;在所述有源层上的第一导 电型半导体层;在所述第一导电型半导体层上的非导电半导体层; 和在所述非导电半导体层上的包括光提取结构的光提取层。
在一个实施方案中,一种制造发光器件的方法包括:在衬底上 形成非导电半导体层;在非导电半导体层上形成第一导电型半导体 层、有源层和第二导电型半导体层;在所述第二导电型半导体层上 形成第二电极层;移除衬底;和在非导电半导体层上形成光提取结 构。
有益效果
实施方案可提供一种具有新结构的发光器件及其制造方法。
并且,实施方案可提供一种具有增强的光提取效率的发光器件 及其制造方法。
附图说明
图1是说明根据第一实施方案的横向型发光器件的视图。
图2是说明根据第二实施方案的垂直型发光器件的视图。
图3~7是说明在平面中具有孔结构或柱结构的单元图案的排列 的视图。
图8~10是显示当改变图2中所示垂直型发光器件的结构因子 时光提取效率的模拟结果图。
图11~14是说明根据第三实施方案的发光器件及其制造方法的 视图。
图15和16是说明根据第四实施方案的发光器件及其制造方法 的视图。
图17和18是说明根据第五实施方案的发光器件及其制造方法 的视图。
发明模式
现在将详细参考本发明公开的实施方案,其中实施例结合附 图来说明。
对本领域技术人员显而易见的是可在不背离本发明的精神和 范围的情况下对本发明中进行各种修改和改变。因此,本发明旨 在包含对本发明的修改和改变,只要它们在所附权利要求及其等 同物的范围内即可。
在全部附图中相同的附图标记表示相同的要素。在图中,为 清楚起见,将层、膜、区域等的厚度进行了放大。
在下述说明中,应理解当层(或膜)称为在另一层或衬底“上” 或“下”时,其可以直接在所述另一层或衬底上或下,或者也可 以存在中间层。另外,应理解当构成要素如“表面”称为“内部” 时,是指该表面比其他构成要素更加远离器件的外侧。
还应理解,附图中的构成要素的方位并不是限制性的。另外, 当提到“直接”时,是指不存在中间构成要素。措辞“和/或”是 指相关构成要素的一个或更多个或者组合都是可能的。
图1是说明根据第一实施方案的横向型发光器件的视图。图2 是说明根据第二实施方案的垂直型发光器件的视图。
参考图1,横向型发光器件包括:衬底10、在衬底10上的未 掺杂的氮化镓(GaN)层24、在未掺杂的GaN层24上的发光半 导体层20、和在发光半导体层20上的欧姆接触层30。
发光半导体层20包括:第一导电型半导体层23、有源层22和 第二导电型半导体层21。发光半导体层20可由GaN基材料形成。
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