[发明专利]强磁场性能得到提高的超导体、其制造方法、以及包含该超导体的MRI仪器有效

专利信息
申请号: 200880100945.3 申请日: 2008-07-31
公开(公告)号: CN101765399A 公开(公告)日: 2010-06-30
发明(设计)人: 金溶进 申请(专利权)人: 金溶进
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055;G01R33/3873
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 丁业平;张天舒
地址: 美国波*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 磁场 性能 得到 提高 超导体 制造 方法 以及 包含 mri 仪器
【说明书】:

相关申请

专利申请要求2007年8月1日提交的、发明名称为“用于提 高含有Nb-Ti、Nb3Sn和MgB2的超导材料、超导线和超导带的强磁 场性能的方法(Method of enhancing high magnetic field properties of  superconducting materials,wires and tapes including Nb-Ti、Nb3Sn,and  MgB2)”的美国临时专利申请No.60/963,145以及2007年8月10 日提交的、发明名称为“基于MgB2磁体的MRI以及相关的仪器(MgB2magnet-based MRI and related apparatus)”的美国临时专利申请No. 60/964,441的优先权,其全部内容以引用的方式并入本文。

技术领域

概括而言,本发明的实施方案涉及超导体及其制造方法。更具体 地说,本发明的实施方案涉及具有强磁场性能的超导体,以及增强超 导体的强磁场性能的方法。

背景技术

目前,Nb-Ti合金和Nb3Sn主要被用来制备强场磁体。近来发现, 39K超导体MgB2在磁体方面具有巨大的潜力,因此其已经得到深入的 研究(参见C.Buzea和T.Yamashita,“Review of the Superconducting  Properties of MgB2”,Supercond.Sci.Technol.15,R115-R146(2001))。 对于由具有高Tc的铜酸盐制成的输电超导电缆,目前尚处于开发过程 中(参见W.Buckel和R.Kleiner,“Superconductivity”,Wiley-VCH, Weinheim(2004),第382页)。

对于磁体应用和电力传输而言,超导材料在高磁场下应具有高的 临界电流密度,这是由于存在强的涡旋钉扎或磁通钉扎。Nb-Ti合金和 Nb3Sn表现出良好的钉扎性能。然而,对于特定的科学应用(如加速器 应用)而言,这些材料的强磁场性能可能还需要进一步提高。此外, 可在20K左右使用的MgB2没有表现出良好的钉扎性能。

可以通过添加杂质、柱状缺陷、人工钉扎和纳米颗粒,机械合金 化,引入晶界和沉淀以及施加辐射损伤来提高超导材料的钉扎性能(参 见W.Buckel和R.Kleiner,“Superconductivity”,Wiley-VCH,Weinheim (2004),第282页)。改变样品的制备条件也会诱导无序结构,从而使 强磁场性能得到提高。基本上,这些方法都会将磁通钉扎中心引入到 超导体中,而不会显著降低临界温度Tc。一般来说,大部分进展是通 过试误法、靠经验而取得的,这是因为尚不存在可靠的关于由无序结 构引起的涡旋钉扎的微观理论(参见W.Buckel和R.Kleiner, “Superconductivity”,Wiley-VCH,Weinheim(2004),第284页)。

从物理学的观点来看,上述的钉扎中心基本上产生电位波动,从 而导致电子密度波动。由于电子-声子相互作用,超导性能所产生的力 有利于对电子密度进行校正(参见Mi-Ae Park和Yong-Jihn Kim,“Weak  localization effect in superconductors from radiation damage”,Phys.Rev. B61,14733(2000));在II型超导体的强磁场中,这些钉扎位点可能有 利于磁通穿透,从而局部破坏超导性,但容许整体具有超导性。简言 之,这些已知的技术采用电位波动(即,电性能)而在超导体中产生 钉扎中心。然而,这些钉扎中心附近的超导性能受到破坏,这是由于 在磁通穿透的存在下整体能量最小化,而不是由于局部电位波动造成 的。换言之,这些电位波动还没有强到足以破坏局部超导性的程度, 因此其可能不是最理想的钉扎中心。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于金溶进,未经金溶进许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880100945.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top