[发明专利]光学元件保持装置、镜筒、曝光装置以及器件的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及用于保持例如透镜、反射镜等光学元件的光学元件保持装置。并且，本发明涉及至少具有1个光学元件的镜筒。而且，本发明涉及在半导体元件、液晶显示元件、薄膜磁头等器件的制造工序中所使用的曝光装置以及器件的制造方法。

背景技术

这种曝光装置中的光学系统包括透镜、反射镜等光学元件，各光学元件被光学元件保持装置所保持。在这种曝光装置中，需要在光学系统的组装、保存、输送时以及曝光装置动作时尽可能减小因温度变化而产生的各光学元件的变形。

此处，在曝光装置的光学系统当中，投影光学系统的各光学元件(例如透镜)通常借助光学元件保持装置而被收纳在镜筒内。该光学元件保持装置具有框体，且该框体被设计成消除因在投影光学系统的组装和工作中的温度变化而产生的透镜和框体的线膨胀系数的差异。

近几年，随着高度集成化的要求，半导体元件的电路图案越来越细微化。因此，在半导体元件制造用曝光装置中，进一步提高曝光精度以及高集成化的要求不断升高，将光学元件的光学面保持在良好状态的技术的重要性也不断升高。

作为用于将光学元件的光学面保持在良好状态的光学元件保持装置，已提出有一种具有形成于透镜单元内的悬臂弯曲部的保持装置，例如用于粘附透镜的3个托座位置配置在该悬臂弯曲部之上(参照专利文献1)。在该以往构成中，通过悬臂弯曲部来吸收因温度变化而产生的框体和透镜的伸缩差以及收缩差，使得透镜不会因机械应力而歪曲。

专利文献1：美国专利4,733,945号

然而，在以往的保持装置中，虽然能够利用悬臂弯曲部的弯曲来吸收框体和透镜的伸缩差以及收缩差，但是由于悬臂弯曲部作为弹簧或枢轴来发挥作用，因而存在悬臂弯曲部的振动模式频率低的问题。

例如，存在马达、工作台等可动部件的振动传递到悬臂弯曲部，从而框体与透镜的相对位置发生变化的问题。

发明内容

本发明鉴于上述情况而做出，其目的在于，提供一种不受振动的影响，并能够降低光学元件与保持部件的线膨胀系数之差所引起的光学元件的变形的光学元件保持装置和镜筒。此外，其其他目的在于，提供能够高效地制造高集成度的器件的曝光装置以及器件的制造方法。

为了解决上述课题，本发明采用了与实施方式中所示的图1～图13对应的以下构成。

本发明的光学元件保持装置，在保持光学元件(28)的光学元件保持装置(29)中，其特征在于，具备：保持部件(45)，其保持上述光学元件，且具有与上述光学元件的线膨胀系数不同的线膨胀系数；和连接机构(100)，其将上述光学元件和上述保持部件连接起来；并且，上述连接机构具有缓冲部(88、92、97)，该缓冲部具有与上述保持部件的线膨胀系数不同的线膨胀系数。

根据本发明，由于具备缓冲部，该缓冲部具有与保持部件的线膨胀系数不同的线膨胀系数，因此，能够不受振动的影响，降低因光学元件与保持部件的线膨胀系数之差所引起的光学元件的变形。因此，能够良好地保持光学元件的光学性能。

另外，为了易于理解本发明，结合表示一实施方式的附图的符号进行了说明，但是本发明不局限于实施方式。

附图说明

图1是表示第1实施方式的曝光装置的概略构成图。

图2是表示第1实施方式的光学元件保持装置的立体图。

图3是表示图2的支撑部件的分解立体图。

图4是表示图3的面支撑构件和支撑构件的立体图。

图5是表示图2的支撑部件的周边的要部俯视图。

图6是表示图5的缓冲部件伸长后的状态的要部俯视图。

图7是图5的7-7线剖视图。

图8是图2的框体的支撑部件周边的要部剖视图。

图9是表示第2实施方式的光学元件保持装置的要部剖视图。

图10是表示其他实施方式的光学元件保持装置的俯视图，其中(a)为初始状态，(b)为温度上升后的状态。

图11是表示其他例子的光学元件保持装置的要部剖视图。

图12是基台部件的变形例的立体图。

图13是器件制造例的流程图。

图14是为半导体器件时的基板处理有关的详细流程图。

具体实施方式

下面，根据附图来说明将本发明具体化了的实施方式。

(第1实施方式)

本发明的曝光装置、光学元件保持装置和镜筒如图1～图8所示，可以具体化为例如半导体元件制造用曝光装置、保持透镜等光学元件的光学元件保持装置、收纳投影光学系统的镜筒。