[发明专利]光固化性组合物及表面具有精细图案的成形体的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及光固化性组合物及表面具有精细图案的成形体的制造方 法。

背景技术

作为光学构件、记录媒体、半导体器件等的制造中在短时间内形成精 细图案的方法，已知的有将表面具有该精细图案的反转图案的模具按压于 被配置在基板表面的光固化性组合物，对该光固化性组合物照射光使该光 固化性组合物固化，藉此在基板表面形成精细图案的方法(纳米压印法)(参 照专利文献1、2)。

但是，该方法中，由于光固化性组合物的固化物与模具密合，因此很 难将固化物与模具分离。所以，必须要在模具的表面涂布脱模剂。由于脱 模剂本身的膜厚、脱模剂的涂布不均等，很难精确地转印模具的反转图案。

作为可形成脱模性良好的固化物的光固化性组合物，提出了下述组合 物。

(1)包含含氟单体、不含氟单体、含氟表面活性剂或含氟聚合物和聚合 引发剂的光固化性组合物(专利文献3)。

但是，(1)的光固化性组合物的固化物由于包含含氟单体、含氟表面活 性剂或含氟聚合物，因此机械强度低。在制造具有纳米级精细图案的成形 体时，必须有可维持图案形状的耐久性。因此，需要可获得机械强度高的 固化物的光固化性组合物。此外，半导体器件的制造中，也需要可获得机 械强度高的固化物的光固化性组合物，这是为了满足抗蚀性高的干式蚀刻 耐性的要求的同时能够以纳米水平的精细图案来保持图案形状。

专利文献1：美国专利第6696220号说明书

专利文献2：日本专利特开2004-071934号公报

专利文献3：国际公开第2006/114958号文本

发明的揭示

本发明的目的是提供可获得脱模性及机械强度高的固化物的光固化性 组合物，以及可制造表面具有模具的反转图案被精确地转印的精细图案且 耐久性良好的成形体的方法。

本发明的光固化性组合物的特征在于，包含具有2个以上的环且具有2 个(甲基)丙烯酰氧基的芳香族化合物或具有2个以上的环且具有2个(甲基) 丙烯酰氧基的脂环式化合物(A)、具有氟原子且具有1个以上的碳-碳不饱 和双键的化合物(B)(但化合物(B)中不包括化合物(A))、具有1个(甲基)丙烯 酰氧基的化合物(C)(但化合物(C)中不包括化合物(B))及光聚合引发剂(D)， 化合物(A)、化合物(B)、化合物(C)及光聚合引发剂(D)的合计(100质量％) 中，化合物(A)为15～60质量％、化合物(B)为5～40质量％、化合物(C) 为10～55质量％、光聚合引发剂(D)为1～12质量％。

较好的是本发明的光固化性组合物实质上不含溶剂。

较好的是本发明的光固化性组合物还含有相对于化合物(A)、化合物 (B)、化合物(C)及光聚合引发剂(D)的合计100质量份为5～30质量份的具 有2个(甲基)丙烯酰氧基的化合物(E)(但化合物(E)中不包括化合物(A)及化 合物(B))。

较好的是本发明的光固化性组合物还含有相对于化合物(A)、化合物 (B)、化合物(C)及光聚合引发剂(D)的合计100质量份为5～90质量份的具 有3个以上(甲基)丙烯酰氧基的化合物(F)(但化合物(F)中不包括化合物 (B))。

较好的是本发明的光固化性组合物还含有相对于化合物(A)、化合物 (B)、化合物(C)及光聚合引发剂(D)的合计100质量份为0.1～3质量份的含 氟表面活性剂(G)，且相对于含氟表面活性剂(G)的总量的化合物(B)的量为 0.5～100倍质量。

较好的是本发明的光固化性组合物还含有相对于化合物(A)、化合物 (B)、化合物(C)及光聚合引发剂(D)的合计100质量份为5～25质量份的含 氟聚合物(H)，且相对于含氟聚合物(H)的总量的化合物(B)的量为0.5～100 倍质量。

本发明的表面具有精细图案的成形体的制造方法的特征在于，包括使 本发明的光固化性组合物与表面具有所述精细图案的反转图案的模具的具 备该反转图案的表面接触的工序；以所述光固化性组合物与所述模具的表 面接触的状态对所述光固化性组合物照射光，使所述光固化性组合物固化 而形成固化物的工序；从所述固化物分离所述模具或所述基板及所述模具， 获得表面具有精细图案的成形体的工序。