[发明专利]氢氧化铬、其制造方法、使用该氢氧化铬的含有三价铬的液体和镀铬方法有效
| 申请号: | 200880020509.5 | 申请日: | 2008-03-26 |
| 公开(公告)号: | CN101795973A | 公开(公告)日: | 2010-08-04 |
| 发明(设计)人: | 星野重夫;真保良吉;田中保之 | 申请(专利权)人: | 日本化学工业株式会社;星野重夫;真保良吉 |
| 主分类号: | C01G37/02 | 分类号: | C01G37/02;C25D21/14;C25D3/06 |
| 代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 氢氧化 制造 方法 使用 含有 三价铬 液体 镀铬 | ||
1.一种氢氧化铬,其特征在于:
该氢氧化铬的凝聚度为10以上且小于70,平均粒径D为40~ 200nm,该凝聚度用通过粒度分布测定装置测定的体积平均粒径D50 与由扫描电子显微镜像测定的平均粒径D之比D50/D表示。
2.如权利要求1所述的氢氧化铬,其特征在于:
该氢氧化铬通过在反应液温为0℃以上且小于50℃的条件下,向 无机碱水溶液中添加含有三价铬的水溶液而得到。
3.如权利要求1所述的氢氧化铬,其特征在于:
该氢氧化铬形成在纯水中悬浊的浆料状态,该浆料实质上不含杂 质离子,
所述杂质离子是指H+和OH-离子以外的离子,
所述实质上不含有是指在调制氢氧化铬以及使用该氢氧化铬调制 浆料期间,不有意地添加杂质离子,允许不可避免地混入微量的杂质 离子。
4.一种氢氧化铬的制造方法,其特征在于:
在反应液温为0℃以上且小于50℃的条件下,向无机碱水溶液中 添加含有三价铬的水溶液,生成氢氧化铬,
以三价铬的量相对于碱的量不形成局部过量的方式,添加含有三 价铬的水溶液。
5.如权利要求4所述的制造方法,其特征在于:
作为所述无机碱,使用碱金属的氢氧化物。
6.如权利要求4所述的制造方法,其特征在于:
在生成氢氧化铬后进行过滤,并进行水洗直至滤液的电导率达到 5mS/cm以下。
7.一种含有三价铬的液体的补充液,其为用于镀铬或金属的表面 处理、或者铬酸盐处理的含有三价铬的液体的补充液,其特征在于:
该补充液是由权利要求1所述的氢氧化铬的浆料形成的含有三价 铬的液体的补充液。
8.一种镀铬方法,其特征在于:
作为使用三价铬的镀铬用的镀液,使用以下组成的镀液,
作为补充液,使用权利要求1所述的氢氧化铬的浆料,
9.如权利要求8所述的镀铬方法,其特征在于:
在以下条件下进行电镀,
电流密度 20~80A/dm2
浴温 35~65℃
阳极 碳板或者钛-铂板。
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