[发明专利]感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图形的形成方法以及印刷电路板的制造方法

权利要求书

1.一种感光性树脂组合物，含有：

(A)酸改性含乙烯基的环氧树脂、

(B)包含由下述式(8)所示的1，2-辛二酮-1-[4-(苯基硫代)苯基] -2-(O-苯甲酰基肟)或者由下述式(15)所示的具有肟酯键的化合物的 光聚合引发剂、

(C)下述通式(3)所表示的具有硫醇基的化合物、

(D)增感剂，

其中，前述(A)酸改性含乙烯基的环氧树脂是使从下述通式(4)所表 示的酚醛清漆型环氧树脂以及下述通式(5)所表示的双酚型环氧树脂组成的 组中选出的至少一种环氧树脂(a)和含乙烯基的单羧酸(b)反应所得到的反 应生成物进一步与含有饱和或者不饱和基团的多元酸酐(c)进行加成所得到 的树脂，前述(D)增感剂是极大吸收波长在370nm～450nm范围内的从吡唑 啉、蒽、香豆素和咕吨酮组成的组中选出的一种以上化合物或它们的衍生物；

式中，R¹¹表示氢原子或甲基，Y¹表示氢原子或缩水甘油基，其中，氢原 子/缩水甘油基摩尔比为0/100～30/70，n1表示1以上的整数；另外，存在的 多个R¹¹和Y¹各自可以相同或不同；

式中，R¹²表示氢原子或甲基，Y²表示氢原子或缩水甘油基，其中，氢原 子/缩水甘油基摩尔比为0/100～30/70，n2表示1以上的整数；另外，存在的 多个R¹²和Y²各自可以相同或不同；

式中，Ar表示2价或3价的芳基，X表示氧原子、氮原子或硫原子。

2.一种感光性元件，具有支持体，和在该支持体上所形成的由权利要求1 所述的感光性树脂组合物所形成的感光性树脂组合物层。

3.一种抗蚀剂图形的形成方法，包括

将由权利要求1所述的感光性树脂组合物所形成的感光性树脂组合物层 叠层在基板上的叠层工序、

以图像形状对前述感光性树脂组合物层照射活性光线，使曝光部分光固化 的曝光工序、和

通过显影除去前述感光性树脂组合物层的未曝光部分的显影工序。

4.根据权利要求3所述的抗蚀剂图形的形成方法，其中，前述曝光工序 是使用波长为405nm的激光对前述感光性树脂组合物层直接描绘曝光，使曝 光部分光固化的工序。

5.一种印刷线路板的制造方法，其对通过权利要求3或4所述的抗蚀剂 图形的形成方法形成了抗蚀剂图形的电路形成用基板，进行蚀刻或镀覆。