[发明专利]将来自物体的辐射成像到探测装置上的方法和用于检查物体的检查装置

说明书

技术领域

本发明主要涉及一种将来自物体的辐射成像到探测装置上的方法，和一种用于检查物体的检查装置。更具体地，本发明涉及一种用于检查例如图案化结构(例如极紫外(EUV)光刻设备的EUV掩模版)的物体上的污染物颗粒的方法和装置。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案成像到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。通常，图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感金属化合物(抗蚀剂)层上进行的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也能够以通过将图案压印(imprinting)到衬底的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。

缺陷，例如小的颗粒或其他(例如)由于物体(例如具有图案化表面的物体，例如EUV掩模版)上的表面缺陷带来的几何像差，将会随机地散射光。通过将来自物体的被散射的辐射的一部分成像到探测装置上，缺陷将会照亮形成亮斑。这种斑的光强是颗粒尺寸的衡量标准。此外，将要在EUV设备中通过辐射束进行图案化的衬底的衬底表面应尽可能没有颗粒。在这点上，就需要检查物体的缺陷。当滤除由可能存在于物体上的周期图案引起的更高级次的衍射就可以完成这个操作。这种滤波可以通过在对上述部分进行成像的成像系统的傅里叶平面中引入空间滤波器来完成。然而，这需要引入相干光，使得衍射能够被滤除掉。通常，使用相干光可能会引入可能形成散斑的问题，散斑是由于表面不规则产生的，即使这种不规则小于1nm量级。

发明内容

本发明旨在保持相干光的同时，提供用于表面散斑构成的滤波器。

根据本发明的一方面，提供一种将来自物体的辐射成像到探测装置上的方法。所述方法包括步骤：引导相干辐射束到所述物体，在相对于所述物体的入射平面内或外在一定角度上扫描所述辐射束，和将被所述物体散射的辐射成像到探测装置上。

根据本发明的另一方面，提供一种构造并布置用以检查物体的缺陷或颗粒的检查装置。检查装置包括光学系统，所述光学系统构造并布置成引导相干辐射束到所述物体。所述光学系统包括角度扫描元件，所述角度扫描元件构造并布置用以改变所述辐射束相对所述物体的入射角，以便在相对于所述物体的入射平面内或外在一定角度上扫描所述辐射束，和探测装置，所述探测装置构造并布置用以接收被所述物体散射的辐射。

根据本发明的另一方面，提供一种光刻设备，其包括构造并布置用以支撑图案形成装置的支撑结构。所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予所述辐射束以形成图案化辐射束。所述设备还包括构造并布置用以保持衬底的衬底台，构造并布置配置用以将所述图案化辐射束投影到所述衬底的目标部分上的投影系统，和构造并布置用以检查所述图案形成装置和/或所述衬底的缺陷或颗粒的检查装置。所述检查装置包括光学系统，所述光学系统构造并布置用以引导相干辐射束到所述图案形成装置和/或所述衬底。所述光学系统包括角度扫描元件，所述角度扫描元件构造并布置用以相对于所述图案形成装置和/或所述衬底改变所述辐射束的入射角，以便在相对于所述图案形成装置和/或所述衬底的入射平面内或外在一定角度上扫描所述辐射束。所述检查装置还包括探测装置，所述探测装置构造并布置用以接收被所述图案形成装置和/或所述衬底散射的辐射。

附图说明

下面仅通过示例的方式，参考附图对本发明的实施例进行描述，其中示意性附图中相应的参考标记表示相应的部件，在附图中：

图1示出根据本发明的检查装置的实施例的第一示意图；

图2示出根据本发明的检查装置的实施例的另一示意图；

图3示出根据本发明实施例的光刻设备；

图4示出根据本发明的检查装置的另一实施例；和

图5A和5B示出显示使用根据本发明的一方面的方法改善信噪比的图。

具体实施方式