[发明专利]将来自物体的辐射成像到探测装置上的方法和用于检查物体的检查装置

权利要求书

1.一种将来自物体的辐射成像到探测装置上的方法，所述方法包括步骤：

引导相干辐射束到所述物体；

在相对于所述物体的入射平面内或外在一定角度上扫描所述辐射束；和

将被所述的物体散射的辐射成像到所述探测装置上。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述入射角在大约40°到大约80°的范围内变化。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述扫描束的扫描速率高于所述探测装置的图像帧速率。

4.根据权利要求1所述的方法，还包括步骤：对设置在所述物体上的周期结构的衍射级进行空间滤波。

5.根据权利要求4所述的方法，还包括步骤：使所述空间滤波与所述扫描同步以便优化所述被散射的辐射的光输出。

6.一种用于检查物体的缺陷的方法，所述方法包括步骤：

引导相干辐射束到所述物体；

在相对于所述物体的入射平面内或外在一定角度上扫描所述辐射束；

将被所述物体散射的辐射成像到探测装置上；

将所述被散射的辐射的图像与预定的图像对比；和

识别表示缺陷或颗粒的被散射的辐射。

7.一种构造并布置用以检查物体的缺陷或颗粒的检查装置，所述检查装置包括：

光学系统，所述光学系统构造并布置成引导相干辐射束到所述物体，所述光学系统包括角度扫描元件，所述角度扫描元件构造并布置用以相对所述物体改变所述辐射束的入射角，以便在相对于所述物体的入射平面内或外在一定角度上扫描所述辐射束；和

探测装置，所述探测装置构造并布置用以接收被所述物体散射的辐射。

8.根据权利要求7所述的装置，其中所述角度扫描元件包括可倾斜的反射镜。

9.根据权利要求7所述的装置，其中所述角度扫描元件包括具有变化的折射表面的可移动的光学元件。

10.根据权利要求7所述的装置，还包括空间滤波器，所述空间滤波器构造并布置用以对设置在所述物体上的周期结构的衍射级进行滤波。

11.根据权利要求10所述的装置，还包括空间滤波器移动同步装置，其构造并布置用以使所述空间滤波器与所述角度扫描元件同步。

12.根据权利要求10所述的装置，其中所述空间滤波器包括与所述图案化结构相关联的自适应滤波器。

13.根据权利要求10所述的装置，其中所述空间滤波器位于相对于所述物体的共轭平面内以便从所述接收到的由所述图案化的光学结构散射的辐射束中对辐射进行滤波。

14.根据权利要求10所述的装置，其中所述空间滤波器是依照根据所述图案化结构的预定滤波图案进行自适应的自适应滤波器。

15.根据权利要求14所述的装置，其中所述空间滤波器是微反射镜装置。

16.根据权利要求15所述的装置，其中所述微反射镜装置是基于TI-DMD或LCD的装置、反射装置、或LCD透射装置。

17.根据权利要求7所述的装置，其中所述辐射束被设置为可见光或近可见光的掠入射的激光束。

18.一种光刻设备，包括：

支撑结构，所述支撑结构构造并布置用以支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予所述辐射束以形成图案化辐射束；

衬底台，所述衬底台构造并布置用以保持衬底；

投影系统，所述投影系统配置用以将所述图案化辐射束投影到所述衬底的目标部分上；和

检查装置，所述检查装置构造并布置用以检查所述图案形成装置和/或所述衬底的缺陷或颗粒，所述检查装置包括：

光学系统，所述光学系统构造并布置用以引导相干辐射束到所述图案形成装置和/或所述衬底，所述光学系统包括角度扫描元件，所述角度扫描元件构造并布置用以改变所述辐射束相对于所述图案形成装置和/或所述衬底的入射角，以便在相对于所述图案形成装置和/或所述衬底的入射平面内或外在一定角度上扫描所述辐射束；和

探测装置，所述探测装置构造并布置用以接收从所述图案形成装置和/或所述衬底散射的辐射。

19.根据权利要求18所述的光刻设备，其中所述光刻设备是极紫外设备，且其中所述图案形成装置包括容装在真空容器中的反射掩模。