[发明专利]基于喷嘴的雾化系统无效

专利信息
申请号: 200880006550.7 申请日: 2008-02-25
公开(公告)号: CN101636232A 公开(公告)日: 2010-01-27
发明(设计)人: P·P·卡卡德;R·C·威廉斯三世;P·格诺瓦 申请(专利权)人: 艾博特呼吸有限责任公司
主分类号: B05B1/34 分类号: B05B1/34
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 崔幼平;杨松龄
地址: 美国伊*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 基于 喷嘴 雾化 系统
【说明书】:

技术领域

[0001]本发明涉及用于使用在包括涉及加压的定计量的剂量吸入器(pressurized metered dose inhalers)的各种药品应用中的加压的喷雾的雾化系统,该雾化系统降低气雾烟雾流(aerosol plume)速度并提高喷雾输送的效率。

背景技术

[0002]加压的经计量的剂量吸入器(“pMDI”)在工业中是常见的,因为是基于“双-孔-集槽(two-orifice-and-sump)”设计的常规的MDI致动器。不幸地是,它们的通用性伴随着它们共同的缺点:高的喷雾速度和不足的颗粒尺寸分布控制,这导致给病人较差的药物输送。据推定高的喷雾速度是导致高的口咽部药物沉积的原因之一(NewmanS.″Principles of Metered-Dose Inhalers″,Respiratory Care,第50卷第9期第1177-1190页,2005年)。为解决该问题的先前尝试是通过使用分隔器(spacer)以降低喷雾速度(例如,美国专利No.4972830)。然而,分隔器是大体积的,并且分隔器内的药物沉积导致输送给病人的药物的减少。用于减缓烟雾流作用力的其他方法包括将复杂的挡板(baffle)或陡壁(bluff)体引入到装置喷嘴或承口(mouthpiece),或者将流动控制/混合室引入到承口(例如,美国专利No.6615826和No.6527151)。然而,这些方法也具有在承口中位于挡板、陡壁或其他空气流障碍的地方增加药物沉积的倾向。

[0003]使用涡流室而修改气雾剂的生成机制本身产生低的烟雾流力喷雾,如在美国专利No.6418925中所描述,该专利结合于此作为参考。根据本发明,通过使用与“标准的”内凹-圆锥喷嘴面(在工业中常见)相反的平的或突出的喷嘴面以及扩展承口嵌入件而修改致动器设计减少了在喷嘴面、装置承口和病人的喉咙上的药物沉积。

[0004]本申请人已经发现平的或突出的喷嘴面影响喷嘴孔处的气雾剂流的动力学特性,这继而影响气雾剂喷雾离开该孔的颗粒尺寸分布。在使用本发明的促动的情况下,来自罐的药物-推进剂混合物以一定角度进入本发明的喷嘴的涡流室。混合物沿室的周边直到混合物以减速的速度经轴向排离孔离开装置,这种流动形成漩涡运动。由本申请人披露的喷嘴面几何构形将未蒸发的药物-推进剂混合物的范围和扩散约束在喷嘴孔周围,因此使药物沉积限制在喷嘴面附近。承口嵌入件用作进一步使喷雾减速。

发明内容

[0005]本发明的雾化系统将涡流喷嘴与平的或突出的喷嘴面和扩展承口嵌入件结合在一起,这产生非常细的颗粒粒度(fraction)和适度的喉部沉积,以及降低的气雾剂烟雾流速度和冲击力。本发明的各种实施例和有关的方法也在下面的描述中公开。根据需要,各种实施例可以单独使用或任意组合使用。

附图说明

[0006]图1是标准的喷嘴面的剖面视图;

[0007]图2是本发明的喷嘴面的实施例的剖面视图;

[0008]图3是本发明的喷嘴面的实施例的剖面视图;

[0009]图4是本发明的喷嘴面的实施例的剖面视图;

[0010]图5是本发明的喷嘴面的实施例的剖面视图;

[0011]图6是本发明的喷嘴面的实施例的剖面视图;

[0012]图7是本发明的喷嘴面的正视图,示出除梯形之外的任何构形的突出喷嘴面的尺寸;

[0013]图8是本发明的喷嘴面的正视图,示出为梯形的突出喷嘴面的尺寸;

[0014]图9是在标准加压的经计量的剂量吸入器中的喷嘴和扩展承口嵌入件的截面图;

[0015]图10是装配有标准集槽式MDI致动器的扩展承口嵌入件的截面图;

[0016]图11是扩展承口嵌入件的一个实施例的正向截面图;以及

[0017]图12是示出使用60U/act胰岛素配方、在罐寿命的起始的情况下关于Kos VNA和Valois比较的数据的图表。

具体实施方式

[0018]现在将参考附图来描述本发明。

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