[发明专利]基于喷嘴的雾化系统无效

专利信息
申请号: 200880006550.7 申请日: 2008-02-25
公开(公告)号: CN101636232A 公开(公告)日: 2010-01-27
发明(设计)人: P·P·卡卡德;R·C·威廉斯三世;P·格诺瓦 申请(专利权)人: 艾博特呼吸有限责任公司
主分类号: B05B1/34 分类号: B05B1/34
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 崔幼平;杨松龄
地址: 美国伊*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 基于 喷嘴 雾化 系统
【权利要求书】:

1.一种用于喷嘴的排离孔的喷嘴面,所述喷嘴用于产生雾化的喷雾,所述喷嘴面包括围绕所述排离孔的升高的同心环,其中所述环由内周线、外周线和高度限定,其中,所述内周线等于所述排离孔的周线,并且所述排离孔包括第一端部、第二端部和周线。

2.如权利要求1所述的喷嘴面,其特征在于,所述升高的同心环具有选自包括凸起的、拱形的、矩形和梯形的组中的形状,并且其中,所述高度是自所述第一排离孔端部的平面到所述第二排离孔端部的平面测量的正数。

3.一种用于产生雾化喷雾的喷嘴,它包括:

圆锥形漩涡室;

开通到所述漩涡室的入口,其中,所述入口以一定角度进入所述漩涡室,所述角度自所述漩涡室的纵轴线测量;

在所述漩涡室的短端部处并与其共线的圆柱形排离孔,所述排离孔由周线和高度限定并且具有在所述长度的一端部处的第一端部和在所述长度的另一端部处的第二端部,所述第一端部靠近所述漩涡室,而所述第二端部远离所述漩涡室;以及接附到所述排离孔的外部的喷嘴面,其中所述喷嘴面由内周线、外周线和高度限定,并且其中所述内周线与所述排离孔周线对齐并相等。

4.如权利要求3所述的喷嘴,其特征在于,所述喷嘴面是形状选自包括凸起的、拱形的、矩形和梯形的组中的升高的同心环,其中,所述高度是自所述第一排离孔端部的平面到所述第二排离孔端部的平面测量的正数。

5.如权利要求3所述的喷嘴,其特征在于,所述喷嘴面的外周线包括等于或大于所述漩涡室的大端部的直径的直径。

6.如权利要求3所述的喷嘴,其特征在于,所述喷嘴面的外周线包括比所述漩涡室的所述大端部的直径小的直径。

7.如权利要求3所述的喷嘴,其特征在于,所述喷嘴面高度的测量值和所述排离孔长度的一样。

8.如权利要求3所述的喷嘴,其特征在于,自所述入口轴线到所述漩涡室轴线测量的角度大于90度。

9.如权利要求3所述的喷嘴,其特征在于,自所述入口轴线到所述漩涡室轴线测量的角度是105度。

10.如权利要求3所述的喷嘴,其特征在于,所述漩涡室具有60到120度的锥角。

11.如权利要求3所述的喷嘴,其特征在于,其还包括联接到所述喷嘴的承口嵌入件,所述承口嵌入件具有近端部和远端部,其中,所述近端部定位成靠近所述喷嘴,以及其中所述远端部的截面面积大约是所述近端部的截面面积的三倍。

12.如权利要求11所述的喷嘴,其特征在于,所述嵌入件在所述近端部处具有大约0.4到0.6英寸的内径,在所述远端部处具有大约0.75到1.25英寸的内径,以及大约0.75到1.5英寸的长度。

13.一种用于产生低烟雾流雾化的喷雾的改进喷嘴,其中,所述喷嘴包括壳体和开通到所述漩涡室的入口,所述漩涡室具有外周线、直径和具有直径的第一漩涡室端部,所述入口与所述外周线相切并且设定成与所述第一漩涡室成一定角度;定位在第二漩涡室处的排离通道,所述第二漩涡室具有直径,所述第一漩涡室的所述直径具有比所述第二漩涡室端部的所述直径更大的直径,所述排离通道与喷嘴面连通,通过所述排离通道气雾剂被泄放,所述改进包括喷嘴面,所述喷嘴面是围绕所述排离通道的升高的同心环,其中,所述环由内周线、外周线和高度限定,其中,所述内周线与所述排离通道共线并相等。

14.如权利要求13所述的喷嘴,其特征在于,所述排离通道还由具有第一端部和第二端部的长度限定,所述第二端部是远离所述漩涡室的端部。

15.如权利要求13所述的喷嘴,其特征在于,所述升高的同心环具有凸起的、拱形的、矩形或梯形的形状,并且其中,所述高度是自所述排离通道的所述第一端部的平面到所述排离通道的所述第二端部的平面测量的正数。

16.如权利要求13所述的喷嘴,其特征在于,所述喷嘴面的外周线具有大于或等于所述第一漩涡室端部的直径的直径。

17.如权利要求13所述的喷嘴,其特征在于,所述喷嘴面的外周线包括比所述第一漩涡室端部的直径小的直径。

18.如权利要求14所述的喷嘴,其特征在于,所述喷嘴面高度和所述排离通道长度一样。

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