[发明专利]曝光方法、曝光装置、聚光图案形成组件、掩膜以及元件制造方法

说明书

技术领域

相关申请案

本申请案主张2007年4月2日提出申请的美国临时申请案第60/907444 号、及2008年2月27日提出申请的美国专利申请案(未标记专利申请号) 的优先权。

本发明是关于，在利用微影(lithography)步骤来制造例如半导体元 件、液晶显示元件、印刷电路基板(print circuit board)、微机电系统 (Micro-Electro-Mechanical Systems，MEMS)或者光集成电路等的元件时， 将电路图案等曝光于感光性平板(基板)上的曝光方法与曝光装置、该曝光 中所使用的聚光图案形成组件与掩膜(或称为光罩)、该些聚光图案形成组 件与掩膜的设计及制造方法、以及上述元件的制造方法。

背景技术

例如在半导体元件、液晶显示元件、印刷电路基板、MEMS或者光集成 电路等的元件的制造步骤中，使用的是用以于该些元件上形成微细图案的 曝光装置(例如参照专利文献1：美国专利第4,636,626号公报

发明内容

在上述专利文献1所揭示的曝光装置中，使用相对于平板(基板)空出 规定的间隔而配置的掩膜来转印图案，故图案被模糊地转印至平板(基板) 上，而无法将微细的图案转印至平板(基板)。因此，本发明的目的在于能 够清晰地转印微细图案。

本发明的曝光方法包括：第1曝光步骤，对配置成接近基板的掩膜照 射曝光光，将形成于该掩膜上的规定的图案曝光于基板上；以及第2曝光 步骤，对配置成接近上述基板且具备多个聚光部的聚光图案形成组件照射 曝光光，将规定形状的聚光图案曝光于上述基板上，在经上述第1曝光步 骤而曝光的规定的图案与经上述第2曝光步骤而形成的上述聚光图案中， 至少一部分是重叠的。

本发明的曝光方法包括：规定的第1图案的第1曝光步骤，在使基板 相对于规定的第1图案而静止的状态下，将上述第1图案曝光于基板上的 第1区域；规定的第2图案的第2曝光步骤，一方面使规定的第2图案与 上述基板进行相对移动，一方面将上述第2图案曝光于上述基板上的上述 第1区域；以及移动步骤，使上述第1图案的形成位置与上述基板进行相 对移动，以便将上述第1图案曝光于上述基板上的与上述第1区域不同的 第2区域，上述第2曝光步骤是在执行上述移动步骤时进行的。上述第2 曝光步骤包括对配置成接近于上述基板且具备多个聚光部的聚光图案形成 组件照射曝光光，并将与上述第2图案相对应的形状的聚光图案形成于上 述基板上。

本发明的曝光装置包括：第1保持部，以接近于基板的方式来保持含 有规定的图案的掩膜；第2保持部，以接近于上述基板的方式来保持聚光 图案形成组件，该聚光图案形成组件具备多个聚光部，该些聚光部将包括 规定形状的聚光图案形成于上述基板上；以及照明部，对被上述第1保持 部所保持的上述掩膜照射曝光光，以将上述规定的图案曝光到上述基板， 并对被上述第2保持部所保持的上述聚光图案形成组件照射曝光光，以将 上述聚光图案曝光到上述基板。

本发明的曝光装置包括：第1曝光部，将规定的第1图案曝光于基板 上的第1区域；第2曝光部，将规定的第2图案曝光于上述基板上的上述 第1区域；基板移动部，使上述基板沿着规定的第1方向而移动；以及控 制部，利用上述第1及第2曝光部控制曝光并利用基板移动部控制上述基 板的移动；上述第2曝光部包括：第2保持部，以接近于上述基板的方式 来保持聚光图案形成组件，该聚光图案形成组件具备多个聚光部，该些聚 光部将形状与上述第2图案相对应的聚光图案形成于上述基板上；以及第2 照明部，对上述聚光图案形成组件照射曝光光。上述控制部执行了：在通 过上述第1曝光部进行曝光时，使上述第1图案与上述基板保持为相对静 止的状态；使上述第1图案的形成位置与上述基板进行相对移动，以将上 述第1图案曝光于上述基板上与上述第1区域不同的第2区域；在使上述 第1图案的形成位置与上述基板进行相对移动时，通过上述第2曝光部将 上述第2图案曝光于上述第1区域。

本发明的聚光图案形成组件与具有第1图案的掩膜组合而使用，上述 第1图案与第1光图案相对应，该第1光图案是形成于被曝光体上的光图 案的一部分，该聚光图案形成组件包括多个聚光部，该些聚光部形成该光 图案的另一部分，该光图案的另一部分对应第2光图案的聚光图案。