[实用新型]多晶硅生产中的氯硅烷、氢气混合的装置有效
申请号: | 200820222838.5 | 申请日: | 2008-11-24 |
公开(公告)号: | CN201305651Y | 公开(公告)日: | 2009-09-09 |
发明(设计)人: | 戴自忠;易忠海 | 申请(专利权)人: | 四川永祥多晶硅有限公司 |
主分类号: | C30B29/06 | 分类号: | C30B29/06;C01B33/03 |
代理公司: | 成都天嘉专利事务所(普通合伙) | 代理人: | 方 强 |
地址: | 614800四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多晶 生产 中的 硅烷 氢气 混合 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及多晶硅生产工艺领域,特别是多晶硅生产中的氯硅烷、氢气混合的装置。
背景技术
在多晶硅生产中,原料为精馏系统产品液态氯硅烷和回收系统产品气态氢气,作为原料的液态氯硅烷和气态H2在进入氢还原炉前,需要将其混合。
传统的混合工艺是在鼓泡器内进行混合,混合过程为:在鼓泡器中有一定液位的氯硅烷,然后往鼓泡器内通入H2,使H2和气相饱和氯硅烷混合,然后由出口管道将其气相混合物送入氢还原炉。在混合的过程中,通过控制鼓泡器内氯硅烷的温度来控制它们的比例;控制H2的流量来控制混合原料的体积。
而这种传统的工艺,存在以下缺点:
1、H2和氯硅烷的比例很难控制,而且比例值不准确;
2、需要控制的参数较多,而且不直观,一般操作人员很难驾驭。
对于现在的多晶硅生产,这种使用鼓泡器的传统设备已经无法满足生产要求,所以必须要一种新的原料混合装置来实现氯硅烷和氢气的混合。
发明内容
本实用新型为解决上述问题提供了多晶硅生产中的氯硅烷、氢气混合的装置,非常方便控制原料的混合比例,而且控制简单。
本实用新型的技术方案如下:
多晶硅生产中的氯硅烷、氢气混合的装置,其特征在于:包括产品汽化器和静态混合器,产品汽化器和静态混合器之间设置有流量计一,所述产品汽化器、流量计一和静态混合器之间均通过管道连接;所述静态混合器还设置有单独的氢气进口。
所述产品汽化器和流量计一之间还设置有切断阀,也通过管道连接。
所述装置的具体连接结构为:
所述产品汽化器的下端为液态氯硅烷的进口,产品汽化器的上端为气态氯硅烷的出口,出口与切断阀的进口连接,切断阀的出口与流量计一的进口连接,流量计一的出口与静态混合器的氯硅烷进口连接;所述静态混合器的氢气进口通过管道依次连接有流量计二和调节阀;静态混合器的出口与氢还原炉的进口连接。
所述流量计一和调节阀之间通过管道连接。
所述产品汽化器设置有蒸汽调节阀。
本实用新型的工作原理如下:
回收系统产品气态H2通过调节阀和流量计二静态混合器,进行H2循环(H2压力:0.5~0.65Mpa,温度:15~35℃);液态氯硅烷进入产品汽化器被蒸汽加热,产品汽化器内的饱和蒸汽(压力:0.47~0.52Mpa,温度:150~160℃)将液态氯硅烷加热成气态氯硅烷(温度:100~110℃,压力:0.55~0.65Mpa),然后打开切断阀,调节流量计一使气态氯硅烷进入静态混合器与H2混合,混合气由静态混合器的出口进入还原炉,进行反应。
本实用新型的有益效果如下:
1、通过调节阀、切断阀和流量计,可以将H2和氯硅烷的比例准确、快速控制。
2、混合气的流量可以准确控制;
3、控制直观、简单,主控人员容易驾驭。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图
具体实施方式
多晶硅生产中的氯硅烷、氢气混合的装置,包括产品汽化器1和静态混合器2,产品汽化器1和静态混合器2之间设置有流量计一3,所述产品汽化器1、流量计一3和静态混合器2之间均通过管道连接;所述静态混合器2还设置有单独的氢气进口4。
所述产品汽化器1和流量计一3之间还设置有切断阀5,也通过管道连接。
所述装置的具体连接结构为:
所述产品汽化器1的下端为液态氯硅烷的进口6,产品汽化器1的上端为气态氯硅烷的出口7,出口6与切断阀5的进口连接,切断阀5的出口与流量计一3的进口连接,流量计一3的出口与静态混合器2的氯硅烷进口8连接;所述静态混合器的氢气进口4通过管道依次连接有流量计二9和调节阀10;静态混合器2的出口11与氢还原炉的进口连接。
所述流量计一3和调节阀10之间通过管道连接。
所述产品汽化器1设置有蒸汽调节阀12。
本实用新型的工作原理如下:
回收系统产品气态H2通过调节阀和流量计二静态混合器,进行H2循环(H2压力:0.5~0.65Mpa,温度:15~35℃);液态氯硅烷进入产品汽化器被蒸汽加热,产品汽化器内的饱和蒸汽(压力:0.47~0.52Mpa,温度:150~160℃)将液态氯硅烷加热成气态氯硅烷(温度:100~110℃,压力:0.55~0.65Mpa),然后打开切断阀,调节流量计一使气态氯硅烷进入静态混合器与H2混合,混合气由静态混合器的出口进入还原炉,进行反应。
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