[实用新型]一种喷淋头

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种喷淋头，具体来说是一种适用在化学气相沉积设备中实用的喷淋头。

背景技术

等离子增强化学气相沉积(英文简称PECVD)的基本原理是：将被镀件置于低气压辉光放电的阴极上，通入几种适当气体，在一定的温度下，利用化学反应和离子轰击相结合的工程，在工件表面获得涂层。同时，反应过程中的辉光放电还有清洗工件表面和对工件均匀加热的作用，提高了膜层结合力和加快了反应速度。但是，由于目前设备中通入的反应气体的混合不均匀，造成在工件表面获得的涂层的膜厚也不均匀，大大的降低了涂层的质量。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供了一种喷淋头，它可以在化学反应之前，将反应气体混合均匀，从而大大的提高了涂层的膜厚均匀性，且能够避免在进气管道内的辉光放电。

为了解决上述问题，采取了如下技术方案：

该喷淋头包括外屏蔽罩、进气管和法兰，外屏蔽罩安装在法兰外部，进气管与混气板组件连接，混气板组件与法兰连接，混气板组件与法兰之间安装绝缘物质，进气管的上端安装真空角阀，进气管与混气板组件通过陶瓷管连接，法兰的下部安装匀气盒组件，匀气盒组件的两端与混气板组件连接。

绝缘物质为绝缘陶瓷和石英玻璃板，绝缘陶瓷位于混气板组件的侧面，石英玻璃板位于法兰的底部；

匀气盒组件下方平行设置进气板，进气板的两端与混气板组件连接，进气板的上面具有孔，进气板的上面的孔成蜂窝状排列；进气板上的孔在面向工件的一侧上窄下宽，进气板上的孔为喇叭口形状或圆台状；

匀气盒组件由两块平行放置的均气板组成，在均气板上有孔，两块均气板上的孔均匀布置且孔位交错；

匀气盒组件的外侧安装内屏蔽罩。

与现有技术相比，本实用新型如有如下优点：

1、本实用新型在进气管的上端设置真空角阀，它可以有效的控制反应气体何时通入，方便化学反应的控制。

2、本实用新型在真空角阀下方连接陶瓷管一定长度的陶瓷管，可有效避免反应气体在进气管内产生辉光放电。

3、本实用新型的混气板组件与法兰之间安装绝缘陶瓷和石英玻璃板可以有效进行绝缘。

4、本实用新型的匀气盒组件由两个均匀布满孔并孔位相互交错的均气板组成，这样当反应气体通过时就得到了均匀的混合；而进气板则是在上面布满了蜂窝状排列的孔，同时各孔在对向工件的一侧上窄下宽，以实现反应气体从每个孔均匀的喷出，并覆盖了进气板没有开孔的区域，形成一个均匀的气层，这样就能保证反应气体均匀的到达工件表面，从而实现涂层膜厚均匀性的目的。

5、本实用新型在法兰的真空外部安装了一个外屏蔽罩，起到一个安全保护的作用，而在匀气盒组件的外部安装了一个内屏蔽罩，以防止匀气盒组件与法兰之间放电。

附图说明

图1是喷淋头的剖面构造示意图；

图2为进气板的外形图。

具体实施方式

实施例：

如图1所示：外屏蔽罩1安装在法兰7外部，起到一个安全保护的作用；进气管3的上端安装真空角阀2，它可以有效的控制反应气体何时通入，方便化学反应的控制；进气管3的下端与陶瓷管4的上端连接，陶瓷管4可有效避免反应气体在进气管内产生辉光放电；陶瓷管4的下端与混气板组件5连接，混气板组件5的下方是一个带有喇叭口形的混气腔，各种气体在此混合；混气板组件5与法兰7连接，混气板组件5与法兰7之间设置绝缘陶瓷6和石英玻璃板8，绝缘陶瓷6位于混气板组件5的侧面，石英玻璃板8位于法兰7的底部，可以有效进行绝缘；法兰7的下部安装匀气盒组件10，匀气盒组件10的两端与混气板组件5连接。

匀气盒组件10由两块平行放置的均气板组成，在均气板上有孔，两块均气板上的孔均匀布置且孔位交错，这样当反应气体通过时就得到了均匀的混合。

匀气盒组件10下方平行设置进气板11，进气板11的两端与混气板组件5连接，进气板11的上面具有蜂窝状排列的孔，孔在对向工件的一侧上窄下宽，可以是圆台状、喇叭口状等形状，以实现反应气体从每个孔均匀的喷出，并覆盖了进气板没有开孔的区域，形成一个均匀的气层，这样就能保证反应气体均匀的到达工件表面，从而实现涂层膜厚均匀性的目的。

匀气盒组件10的外部安装内屏蔽罩9，以防止匀气盒与法兰之间放电。

具体工作过程：

将外屏蔽罩1、真空角阀2、进气管3、陶瓷管4、混气板组件5、绝缘陶瓷6、石英玻璃板8、内屏蔽罩9、匀气盒组件10与法兰7组装到一起，通过法兰7将喷淋头安装到设备上，打开真空角阀2通入反应气体，将混气板组件5上加射频，在进气板11和镀件之间生成等离子体，同时将各种气体在混气腔内混合，反应气体依次通过陶瓷管4、混气板组件5、匀气盒组件10和进气板11，最后反应气体均匀的喷射到工件表面。