[实用新型]高阻尼吸振平台结构无效
| 申请号： | 200820208272.0 | 申请日： | 2008-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN201277422Y | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | 蔡宏毅 | 申请（专利权）人： | 台湾奈米科技应用股份有限公司 |
| 主分类号： | F16M11/00 | 分类号： | F16M11/00;F16F7/10;F16F15/02;G12B9/08 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 董惠石 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 阻尼 平台 结构 | ||
1、一种高阻尼吸振平台结构，其特征在于，所述高阻尼吸振平台结构包含：
一基座；
一框体结构，经定位结构定位在该基座上，该框体结构中具有一阻尼材料填充空间；
一阻尼填充材，填充于该框体结构中的阻尼材料填充空间；
一上盖板，盖覆在该阻尼填充材上形成机台承置面，能承置一机台。
2、根据权利要求1所述的高阻尼吸振平台结构，其特征在于，该上盖板的底面还具有至少一补强肋，该补强肋由该上盖板的底面向下延伸出一预定高度。
3、根据权利要求1所述的高阻尼吸振平台结构，其特征在于，该框体结构的内侧面还具有至少一补强肋，该补强肋由该框体结构的内侧面向水平方向延伸出一预定长度。
4、根据权利要求1所述的高阻尼吸振平台结构，其特征在于，该框体结构的内侧面还灌注形成有一结构环氧树脂层。
5、一种高阻尼吸振平台结构，其特征在于，所述高阻尼吸振平台结构包含：
一框体结构，该框体结构中具有一阻尼材料填充空间；
一阻尼填充材，填充于该框体结构中的阻尼材料填充空间，该阻尼填充材系由多数个阻尼填充模块所叠置组成；
一上盖板，盖覆在该阻尼填充材上形成机台承置面，能承置一机台。
6、根据权利要求5所述的高阻尼吸振平台结构，其特征在于，该上盖板的底面还具有至少一补强肋，该补强肋由该上盖板的底面向下延伸出一预定高度。
7、根据权利要求5所述的高阻尼吸振平台结构，其特征在于，该框体结构的内侧面还具有至少一补强肋，该补强肋由该框体结构的内侧面向水平方向延伸出一预定长度。
8、根据权利要求5所述的高阻尼吸振平台结构，其特征在于，该框体结构的内侧面还灌注形成有一结构环氧树脂层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾奈米科技应用股份有限公司，未经台湾奈米科技应用股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200820208272.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
