[实用新型]300mm立式氧化炉炉体

说明书

技术领域

本实用新型属于一种用于300mm硅片热处理的立式氧化炉，具体是一种300mm立式氧化炉的炉体。

背景技术

氧化炉是用于硅片进行氧化、退火等热处理工艺的半导体设备，现用的氧化炉，大都是卧式结构，其温度均匀性及控温精度不够理想，操作和控制不够精确灵活，自动化程度低、生产效率和产品质量不够高，不能适应300mm硅片的生产需求。因此，需要提出一种结构改进的300mm立式氧化炉炉体。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决上述技术问题，提出一种300mm立式氧化炉炉体，该氧化炉炉体结构新颖、完善，温度控制灵活、精确，生产效率和产品质量大大提高。

本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的：300mm立式氧化炉炉体，设有主体、顶盖、基座，其特征在于：所述主体为一直立圆筒形，由内到外依次设有炉丝、炉丝支撑件、保温棉层、内壁、冷却管、外壁，所述炉丝在主体内由上到下多圈环绕，由炉丝支撑件支撑固定，保温棉层设置在内壁内侧，在内壁和外壁之间设置上下迂廻弯曲的冷却管；冷却管设有冷却水进出水口；设有多个热电偶、炉丝引线穿过保温层、内壁、外壁，横向固定在内壁上，热电偶里端到达测温位置，炉丝引线里端焊接在炉丝上；在主体上口沿设有环形顶块，该顶块中间设有顶盖，在主体的下口设有环形底块，所述顶盖、顶块、保温棉、底块组成保温层，该保温层通过顶块和底块固定在内壁上；冷却管和外壁也固定在内壁上，外壁将冷却管包覆起来；内壁固定在基座上，该基座上设有冷却密封槽和进出水口。

本实用新型的300mm立式氧化炉炉体是一种新型的炉体结构形式，区别与以往常规卧式炉体结构，与一般立式炉炉体在结构上也是有很大不同，结构新颖，首创。恒温区长度占炉体总长度的70％，有效地节约了空间和能源。控温精度高，提高了处理硅片的质量及效率。

附图说明

图1是本实用新型的外观结构示意图；

图2是本实用新型的内部结构示意图；

图3是本实用新型的基座结构示意图；

图4是图2局部A放大示意图；

图5是图3局部C放大示意图；

图6是图2局部B放大示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的说明：实施例：参见附图，300mm立式氧化炉炉体，设有主体、顶盖、基座，所述主体为一直立圆筒形，由内到外依次设有炉丝8、炉丝支撑件7、保温棉层6、内壁3、冷却管4、外壁5，所述炉丝在主体内由上到下多圈环绕，由炉丝支撑件支撑固定，保温棉层设置在内壁内侧，在内壁和外壁之间设置上下迂廻弯曲的冷却管；冷却管设有冷却水进出水口(15)；设有多个热电偶11、炉丝引线12穿过保温层、内壁、外壁，横向固定在内壁上，热电偶里端到达测温位置，炉丝引线里端焊接在炉丝上；在主体上口沿设有环形顶块2，该顶块中间设有顶盖1，在主体的下口设有环形底块9，所述顶盖、顶块、保温棉、底块组成保温层，该保温层通过顶块和底块固定在内壁上；冷却管和外壁也固定在内壁上，外壁将冷却管包覆起来；内壁固定在基座10上，该基座上设有冷却密封槽14和进出水口13。