[实用新型]化学气相沉积设备及其晶舟有效

申请号：	200820123067.4	申请日：	2008-10-21
公开（公告）号：	CN201347452Y	公开（公告）日：	2009-11-18
发明（设计）人：	赵星;翟立君	申请（专利权）人：	中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号：	C23C16/44	分类号：	C23C16/44
代理公司：	北京集佳知识产权代理有限公司	代理人：	董立闽;李丽
地址：	100176北京***	国省代码：	北京;11
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摘要：
搜索关键词：	化学沉积设备及其
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【权利要求书】：

1、一种化学气相沉积设备，包括炉管和放置于所述炉管内的晶舟，所述晶舟包括第一端部和与所述第一端部相对的第二端部，在所述第一端部和第二端部之间具有多个相互平行的、用于放置晶片的晶片插槽，且每个所述晶片插槽具有至少两个相互分离、用于支撑晶片的支撑架，其特征在于：每一个所述支撑架所在的平面向所述第一端部所在的平面倾斜第一角度。

2、如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述第一角度在3°至5°之间。

3、如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述炉管为立式炉管。

4、如权利要求3所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述第一端部位于所述立式炉管的顶部，所述第二端部位于所述立式炉管的底部。

5、如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于：每个所述晶片插槽具有三个支撑架。

6、如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述支撑架的形状为边角圆弧化后的长方体。

7、如权利要求6所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述支撑架各边的长度在15mm至50mm之间。

8、一种用于化学气相沉积设备的晶舟，包括第一端部和与所述第一端部相对的第二端部，在所述第一端部和第二端部之间具有多个相互平行的、用于放置晶片的晶片插槽，且每个所述晶片插槽具有至少两个相互分离、用于支撑晶片的支撑架，其特征在于：每一个所述支撑架所在的平面向所述第一端部所在的平面倾斜第一角度。

9、如权利要求8所述的晶舟，其特征在于：所述第一角度在3°至5°之间。

10、如权利要求8所述的晶舟，其特征在于：每个所述晶片插槽具有三个支撑架。

11、如权利要求8所述的晶舟，其特征在于：所述支撑架的形状为边角圆弧化后的长方体。

12、如权利要求11所述的晶舟，其特征在于：所述支撑架各边的长度在15mm至50mm之间。

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