[实用新型]一种锑化铝透明薄膜太阳电池无效
| 申请号: | 200820061642.2 | 申请日: | 2008-01-07 |
| 公开(公告)号: | CN201156545Y | 公开(公告)日: | 2008-11-26 |
| 发明(设计)人: | 李卫;冯良桓;吕彬;蔡亚平;张静全;黎兵;武莉莉;雷智;郑家贵;孙震;谢晗科 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
| 主分类号: | H01L31/072 | 分类号: | H01L31/072 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 610064四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 锑化铝 透明 薄膜 太阳电池 | ||
技术领域
本实用新型属于一种半导体薄膜太阳电池的结构设计,特别涉及一种透明薄膜太阳电池。
背景技术
与晶体太阳电池相比较,薄膜太阳电池的少数载流子寿命很短,因而,限制了薄膜太阳电池获得较高的理论转换效率。但是,采用电流或电压匹配的叠层电池,在考虑了顶电池各薄层实际光学损失的条件下,当双结叠层薄膜太阳电池的顶电池和底电池吸收层的能隙分别为~1.7eV和~1.1eV时,这种双结叠层电池可以获得28%的理论转换效率(见Proceedings of the12th Photovoltaic Science and Engineering Conference,Cheju Island,Korea,2001:277),大大超过了目前单结薄膜太阳电池的效率。
在高效双结叠层薄膜太阳电池的制作过程中,其中一项挑战性的工作就是研制出效率高和对底电池带隙光透明的透明顶电池。所谓对底电池带隙光透明,指的是太阳光通过顶电池后在近红外波段仍有较高的透过率,可以被底电池吸收利用。
由于透明顶电池要求吸收层的能隙比较宽,因此选择的范围主要集中在I-III-VI2和II-VI族化合物半导体材料中,如Ag(InGa)Se2(1.7eV),CuGaSe2(1.6eV),CdTe(1.44eV)等,对于I-III-VI2族材料,虽然其能隙接近1.7eV,但存在如下缺点:三元或多元化合物制备困难,很难控制化学配比;当不透明的背接触换成透明的背接触材料,如透明导电氧化物薄膜(TCO),制备的高温过程导致Ga2O3的形成及TCO中组分的缺失,严重影响器件的性能。另外,这类材料在价带上0.8~0.9eV存在缺陷态能级或能带,当调控I-III-VI2族材料的能隙时,这类复合中心会随能隙的增大而接近带隙的中心,严重缩短少数载流子寿命。对于II-VI族化合物半导体材料CdTe,尽管已经获得了16.5%的单结薄膜太阳电池的转换效率(见Proceedings of the 17thEuropean Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition,Munich,Germany,2001:22),但CdTe作为顶电池,其能隙(~1.44eV)偏小。虽然采用掺杂(如掺Zn、Mn等)处理可以使能隙接近理想顶电池吸收层的能隙(~1.7eV),但是,这种材料在经过CdCl2后处理后,容易导致材料的化学配比失衡。其次,CdTe的功函数很高,很难与后面的金属直接形成欧姆接触,通常需加复杂的复合层形成透明背接触,如ZnTe:Cu/ITO、CuxTe/ITO。
发明内容
本实用新型的目的是为了消除上述不足或缺陷,进一步改进双结叠层薄膜太阳电池中透明顶电池的结构设计,提出一种以AlSb作吸收层,以单壁碳纳米管(CNT)涂层作透明导电背接触层的透明薄膜太阳电池。
为实现本实用新型目的,本实用新型的技术方案是:在硼硅或铝硅玻璃衬底上沉积透明导电膜Cd2SnO4(CZT),然后沉积缓冲层ZnSnOx(ZTO),接着沉积n型窗口层CdS和p型吸收层AlSb,随后沉积单壁碳纳米管涂层(p型)作为透明导电背接触,最后沉积Ni/Al栅线以及MgF2减反层。本实用新型中所说的透明导电背接触指的是,太阳光照射到电池上后,在800~1500nm波段范围的光,仍然以较高的透过率通过背接触。
AlSb薄膜室温下的能隙~1.65eV(接近理想高效双结叠层薄膜太阳电池顶电池的能隙),其功函数~3.65eV,虽然AlSb是一种间接能隙的半导体材料,但在光子能量>1.65eV时,其吸收系数>104/cm,因此,AlSb可以获得较高的理论转换效率(~27%)。而采用p型单壁碳纳米管涂层作为透明背接触,可使p型AlSb吸收层的耗尽区变宽,提高薄膜太阳电池的光电转换效率。同时,对波长>800nm的太阳光有较高的透过率,可被叠层电池中的底电池有效利用,因此,这种透明电池对叠层电池的研制具有重要意义。
附图说明
图1为AlSb透明薄膜太阳电池的结构示意图。
图2为单壁碳纳米管(CNT)涂层的透过率曲线。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





