[实用新型]晶粒尺寸可控的多晶硅薄膜制备及检测装置

权利要求书

1、一种晶粒尺寸可控的多晶硅薄膜制备及检测装置，其特征在于由激光源(1)、分光器(2)、光束整形系统(4)、多晶硅薄膜基片(5)、光学聚焦系统(7)、受激拉曼光谱接收系统(8)、拉曼数据分析并反馈系统(9)和移动工作台组成，各部件的位置关系如下：所述的多晶硅薄膜基片(5)置于所述的移动工作台上，所述的激光源(1)输出的激光束被分光器(2)分成第一光束(3)和第二光束(6)，所述的第一光束(3)经光束整形系统(4)后扫描在移动工作台上的多晶硅薄膜基片(5)进行激光退火，所述的第二光束(6)经所述的光学聚焦系统(7)照射在经过激光退火的多晶硅薄膜基片(5)，激发已退火的多晶硅的拉曼光谱并被所述的受激拉曼光谱接收系统(8)接收，然后由拉曼数据分析并反馈系统(9)进行数据处理并反馈至激光源(1)，控制激光源(1)输出激光的功率，以调整激光能量密度及其稳定性。

2、根据权利要求1所述的多晶硅薄膜制备及检测装置，其特征在于所述的光束整形系统(4)把第一光束整形成为光强均匀分布的条状光束。

3、根据权利要求1所述的多晶硅薄膜制备及检测装置，其特征在于所述的光学聚焦系统(7)将第二光束(6)聚焦于已退火的多晶硅薄膜，光斑尺寸0.5～1.5μm。

4、根据权利要求1所述的多晶硅薄膜制备及检测装置，其特征在于所述的激光源(1)为脉冲激光器或连续激光器，波长范围266～1064nm；

5、根据权利要求1所述的多晶硅薄膜制备及检测装置，其特征在于所述的第一光束(3)与第二光束(6)的分光比为95～80％：5～20％。

6、根据权利要求1所述的多晶硅薄膜制备及检测装置，其特征在于所述的拉曼光谱接收系统(8)对所述的激光源(1)波长范围的光谱接收灵敏，有较好的荧光屏蔽效果。

7、根据权利要求1所述的多晶硅薄膜制备及检测装置，其特征在于所述的拉曼数据分析及反馈系统(9)是一台计算机，对由拉曼光谱接收系统(8)送入的数据进行数据处理，并根据处理的结果显示相应的TO峰峰位、半高宽和晶粒大小。

8、根据权利要求1至7任一项所述的多晶硅薄膜制备及检测装置，其特征在于所述的基片是玻璃基底。