[实用新型]多轴向经编机铺纬控制系统

权利要求书

1.一种多轴向经编机铺纬控制系统，其包括传送链机构、横移机构运动、铺纬小车运动、纬纱缠绕各挂针上的装置、若干伺服运动系统、脉冲I/O端口、运动控制芯片、MCU微处理器、PLC可编程控制器和一个触摸屏，所述的伺服运动系统分别与相应脉冲I/O端口相连，上述脉冲I/O端口再统一连接到运动控制芯片和MCU微处理器上，MCU微处理器连接着一个PLC可编程控制器，PLC可编程控制器再外接一个触摸屏，所述的PLC可编程控制器通过一个MCU微处理器来控制运动控制芯片，运动控制芯来控制各伺服运动系统，各伺服运动系统驱动所述传送链机构、横移机构运动、铺纬小车运动、纬纱缠绕各挂针上的装置统一协调动作，完成多轴向铺纬运动。

2.如权利要求1所述的多轴向经编机铺纬控制系统，其特征在于所述的运动控制芯片为MCX314运动控制芯片。

3.如权利要求1所述的多轴向经编机铺纬控制系统，其特征在于所述的运动控制芯片为MCX312运动控制芯片。

4.如权利要求1所述的多轴向经编机铺纬控制系统，其特征在于所述的触摸屏上输入参数包括各层铺纬的角度、门幅、间隙补偿及成圈密度参数。

5.如权利要求1所述的多轴向经编机铺纬控制系统，其特征在于所述的微处理器内存中预先存好铺纬机构的运动轨迹曲线等相关数据，由MCU微处理器实时地把运动所需的位置、速度以及加速度送入到运动控制芯片来实现传动链轮的控制，再由运动控制芯片组成的控制电路控制伺服驱动系统。

6.如权利要求5所述的多轴向经编机铺纬控制系统，其特征在于通过X和Y轴方向的所述的伺服运动系统，保证多轴向纬纱铺纬角度可以从—60度～+60度之间的任何角度。

7.如权利要求5所述的多轴向经编机铺纬控制系统，其特征在于各伺服运动系统控制驱动所述传送链机构、横移机构运动、铺纬小车运动、纬纱缠绕各挂针上的装置完成第一层+45度纬纱、第二层0度的纬纱层、第三层—45度的纬纱层的铺设和缠绕。

8.如权利要求5所述的多轴向经编机铺纬控制系统，其特征在于所述的伺服运动系统控制横移机构连同所述的铺纬小车一起沿传送链机构纵向方向向前滑移运动，同时横移机构也横向向右滑移运动，上述横向滑移运动和纵向方向滑移运动合成为复合运动，当横向滑移运动的速度与纵向方向滑移运动速度相等时，那么第三纬纱耙针板将第三层纬纱以-45度缠绕在两侧挂针板的挂针上；随后横移机构连同铺纬小车一起沿传送链机构纵向方向向后滑移运动，同时横移机构也横向向左滑移运动，上述横向滑移运动和纵向方向滑移运动合成为复合运动，当横向滑移运动的平均速度与纵向方向滑移运动平均速度相等时，那么第三纬纱耙针板也将第三层纬纱以-45度缠绕在两侧挂针板的挂针上，这样一来一去往复缠绕构成了铺纬缠绕过程，每次的来往过程，整个传送链机构向前移动一个挂针间距，这样将整个纬纱以-45度迂回地缠绕在两侧挂针板的各挂针上。

9.如权利要求5所述的多轴向经编机铺纬控制系统，其特征在于所述的伺服运动系统控制横移机构连同铺纬小车一起沿传送链机构纵向方向向前滑移运动相对速度为零，同时横移机构也横向向右滑移运动，那么第二层纬纱耙针板将第二纬纱以0度缠绕在两侧挂针板的挂针上；随后当横移机构连同铺纬小车一起沿传送链机构纵向方向向前滑移运动相对速度为零时，同时横移机构也横向向右滑移运动，那么第二纬纱耙针板将第二层纬纱以0度缠绕在两侧挂针板的挂针上，这样一来一去往复缠绕构成了铺纬缠绕过程，每次的来往过程，整个传送链机构向前移动一个挂针间距，这样将整个纬纱以0度迂回地缠绕在两侧挂针板的各挂针上。

10.如权利要求5所述的多轴向经编机铺纬控制系统，其特征在于所述的伺服运动系统控制横移机构连同铺纬小车一起沿传送链机构纵向方向向前滑移运动，同时横移机构也横向向左滑移运动，上述横向滑移运动和纵向方向滑移运动合成为复合运动，当横向滑移运动的速度与纵向方向滑移运动速度相等时，那么第一纬纱耙针将第一层纬纱以-45度缠绕在两侧挂针板的挂针上；随后横移机构连同铺纬小车一起沿传送链机构纵向方向向后滑移运动，同时横移机构也横向向右滑移运动，上述横向滑移运动和纵向方向滑移运动合成为复合运动，当横向滑移运动的平均速度与纵向方向滑移运动平均速度相等时，那么第一纬纱耙针板也将第一层纬纱以+45度缠绕在两侧挂针板的挂针上，这样一来一去往复缠绕构成了铺纬缠绕过程，每次的来往过程，整个传送链机构向前移动一个挂针间距，这样将整个纬纱以+45度迂回地缠绕在两侧挂针板的各挂针上。