[实用新型]超净高纯电子级过氧化氢提纯设备无效
| 申请号: | 200820033717.6 | 申请日: | 2008-04-01 |
| 公开(公告)号: | CN201214627Y | 公开(公告)日: | 2009-04-01 |
| 发明(设计)人: | 刘鸣;赵云翰;严增源;袁燕萍 | 申请(专利权)人: | 苏州市晶协高新电子材料有限公司 |
| 主分类号: | C01B15/013 | 分类号: | C01B15/013 |
| 代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 | 代理人: | 董建林;薛伯奇 |
| 地址: | 215151江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 净高 电子 过氧化氢 提纯 设备 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种提纯超净高纯过氧化氢的设备。该设备生产的超净高纯过氧化氢适用于电子工业硅晶片的清洗。
背景技术
过氧化氢广泛应用于多个领域,具有漂白、氧化、消毒、杀菌等多种功效。超净高纯过氧化氢在大规模集成电路和光伏行业用做清洗剂,主要用于芯片和硅园片的清洗和蚀刻。过氧化氢的纯度和洁净度对电子产品的成品率、电性能及可靠性有着十分重要影响。目前过氧化氢采用蒽醌法制备,用该种方法获得的过氧化氢溶液含有诸多的无机离子或化合物杂质,因此过氧化氢溶液需经提纯处理,以除去杂质,达到要求的高纯度,尤其在电子工业,需要极高纯度的过氧化氢溶液。目前提纯过氧化氢主要采用树脂吸附法,该方法生产流程复杂,能源消耗大,产量低,设备占地面积大。应用冷却塔内的循环水进行冷却,受环境温度影响大,而过氧化氢的不稳定性随着温度的升高成几何倍地增长,因此难以保证其稳定性,容易促使其分解。传统的离子交换过氧化氢设备全为有机玻璃装置,靠手工控制操作,出现意外全靠人工处理,处理不当即玻璃四溅,造成人员伤亡和财产损失,既不安全又不环保。
实用新型内容
为了克服现有技术的不足,本实用新型的目的在于提供一种节能环保,生产高稳定性、高纯度、高产量过氧化氢提纯设备。
本发明是通过以下技术方案来实现的:超净高纯电子级过氧化氢提纯设备,包括原料槽、中间罐、吸附柱、交换柱、成品槽、废液槽以及泵、阀和连接管,其中原料槽出口与泵连接,泵与吸附柱进口连接,吸附柱的出口与中间罐入口连接,中间罐的出口与冷凝器入口连接,冷凝器的出口与吸附柱入口连接,吸附柱出口与成品槽入口连接,废液槽的入口与吸附柱以及交换柱的出口连接,其特征在于还包括纯水槽和冷泵,其中纯水槽的出口与吸附柱以及交换柱的入口连接,冷泵与冷凝器连接。
前述超净高纯电子级过氧化氢提纯设备,其特征在于采用PVDF材质,除原料槽、成品槽以及中间罐外系统其他部分集中于不锈钢箱体中。
前述超净高纯电子级过氧化氢提纯设备,其特征在于采用自动化控制系统,该自动化控制系统采用自动报警系统。
本实用新型的有益效果是:本实用新型能有效除去过氧化氢中的有机离子和杂质颗粒,提供可用于电子工业的超净高纯过氧化氢。因采用冷却泵代替传统的循环水制冷技术,能严格控制冷却温度,既提高生产的安全性,又减少循环水的用量,节省水资料,达到节能环保。全程电脑控制,采用自动化控制设备操作系统,保证过氧化氢的高稳定性。自动控制系统采用自动报警系统,有效避免事故的发生,采用新型的PVDF材质,提高了生产的安全性。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合附图,详细说明本实用新型的具体实施方式:
超净高纯电子级过氧化氢提纯设备,包括:原料槽1、吸附柱2、中间罐3、交换柱4、成品槽5、废液槽6、纯水槽7、冷泵8以及泵、阀和连接管,原料槽1出口与泵连接,泵与吸附柱2进口连接,吸附柱的出口与中间罐3入口连接,中间罐的出口与冷凝器9入口连接,冷凝器的出口与吸附柱2入口连接,吸附柱出口与成品槽5入口连接,废液槽6的入口与吸附柱2以及交换柱4的出口连接,其中纯水槽7的出口与吸附柱以及交换柱的入口连接,冷泵8与冷凝器9连接。原料槽1用来盛放工业级过氧化氢,吸附柱2用于除去有机碳杂质,经过离子交换柱4的过氧化氢进入成品槽中,装置运行时冷凝器管程中进的是过氧化氢,而壳程中进的是自来水,与冷凝器相连的冷泵将自来水温降至10℃,使流经冷凝器中的过氧化氢在经过离子交换柱之前先将温度降至35℃以下,大大增加了过氧化氢的稳定性,不合格产品将自动进入废液槽。本实用新型采用PVDF(聚偏氟乙烯)材质,除具有良好的耐化学腐蚀性、耐高温性、耐氧化性、耐候性、耐射线辐射性能外,还具有压电性、介电性、热电性等特殊性能,采用该材质制造的离子交换柱及相关管路,可以避免成品的二次污染。PVDF树脂交换柱承受的压力最大可以达到1MPa。
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