[实用新型]用于硅片表面沉积反射膜的除尘刷盒

说明书

技术领域

本实用新型设计到一种硅片的生产技术，具体地说是一种用于硅片表面沉积反射膜的除尘刷盒。

背景技术

等离子增强型化学气相沉积简称PECVD，是一种化学气相沉积方法。在生产硅片时，为进一步降低硅片表面的反射率，通常利用这种方式在硅片表面沉积一层兰色的可以降低反射率的薄膜。在沉积薄膜时，借助微波或射频等手段，使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体的化学活性很强，很容易发生反应，于是在基片上沉积出所期望的薄膜。在现有技术中，由于没有在沉积设备上安装除尘刷盒，因此，经常出现如下缺陷：1、吸附在石墨框上的粉尘越积越多，造成识别率降低，从而降低了太阳能电池的转换效率。2、由于没有及时清除粉尘，造成卡框，从而增加卡框故障的发生。3、损失严重，碎片率高。如每片成本为53元，每次要损失30片，一天直接硅片损失就达1500元，一个月按25天计算，就要损失37500元，一年就要损失45万元。再者，被迫停机，若设备需要恢复正常生产，往往需要两小时，间接损失也达到两万元。还影响生产效率。

发明内容

本实用新型的目的在于设计一种用于硅片表面沉积反射膜的除尘刷盒，以提高产品合格率与生产效率。

按照本实用新型提供的技术方案，在盒体内设置毛刷，该毛刷的根部被固定在盒体内的底部，毛刷的刷毛部分伸出盒体的外面。

盒体包括底面及位于底面四周的侧面，毛刷的底部位于盒体的底面及侧面围成的空间内。在盒体的一个侧面上设置用于安装除尘刷盒的安装孔。或者在盒体的一个侧面上设置向盒体外延伸的延伸部，该延伸部与该侧面位于同一个平面内，在该延伸部上设置用于安装除尘刷盒的安装孔。在盒体内、毛刷的旁边设置用于收集粉尘的收集腔。

本实用新型的优点是：在生产硅片时，可以在石墨运行路径上安装若干个本实用新型的除尘刷盒，当盛装硅片的石墨框经过时，利用毛刷将吸附在石墨框上的粉尘刷除，并收集到盒体内的收集腔内，然后不定期的处理，从而有效地减少了粉尘对反应腔体的影响，提高反射膜的均匀性和电池的转换效率。

附图说明

图1是本实用新型的立体图。

具体实施方式

如图所示：在盒体4内设置毛刷3，该毛刷3的根部被固定在盒体4内的底部，毛刷3的刷毛部分伸出盒体4的外面。使用时，将多个盒体4依次安装于石墨框的运行路径上，当盛装硅片的石墨框经过时，利用毛刷将吸附在石墨框上的粉尘刷除，并收集到盒体内的收集腔内，然后不定期的处理，从而有效地减少了粉尘对反应腔体的影响。

盒体4包括底面及位于底面四周的侧面，毛刷3的底部位于盒体4的底面及侧面围成的空间内。在必要时，可以在该空间内、毛刷的旁边设置一个用于收集粉尘的收集腔，以便及时收集被毛刷刷落的粉尘，以免粉尘飞扬，再次产生污染。

在盒体4的一个侧面上设置用于安装除尘刷盒的安装孔1。具体地说，可以在盒体4的一个侧面上设置向盒体外延伸的延伸部，该延伸部与该侧面位于同一个平面内，在该延伸部上设置用于安装除尘刷盒的安装孔1。使用时，螺栓插入该安装孔1内，将除尘刷盒安装于指定的部位。