[发明专利]镀膜设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种真空镀膜设备，尤其涉及一种加热稳定的镀膜设备。

背景技术

随着光学产品的发展，光学元件的应用范围越来越广。相应地，业界采用各种方法来制造光学元件以适应市场对不同规格光学元件的需求(请参阅“Fabrication of DiffractiveOptical Lens for Beam splitting Using LIGA Process”，Mechatronics andAutomation，Proceedings of the 2006IEEE International Conference on，pp.1242-1247，2006.06)。通常来说，制造出的光学元件需经过后续处理以获得适于应用的良好性能。

镀膜工序为后续处理中的重要步骤之一。镀膜是指以物理或化学方法在光学元件表面镀上单层或多层薄膜，利用入射、反射及透射光线在薄膜界面产生的干涉作用实现聚焦、准直、滤光、反射及折射等效果。

现在普遍采用真空溅射镀膜的方式在工件上产生薄膜，溅射镀膜过程中，惰性气体(通常为氩气)在高压下辉光放电，产生氩离子，氩离子轰击靶材表面，使靶材表面的原子获得能量并逸出表面，沉积在工件上形成薄膜。

在溅射镀膜中，有时采用红外线灯管等红外线加热方式对工件进行加热，使得工件的温度发生变化从而使靶材原子容易沉积在表面。但是，由于氩离子、靶材原子等带电粒子会落在红外线灯管上，对红外线灯管造成干扰，使得加热不稳定。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种加热稳定的镀膜设备。

一种用于对工件进行镀膜的镀膜设备，，其包括具有开口的第一腔体、设置在所述开口处的挡板和红外线加热单元，所述红外线加热单元设置在所述第一腔体中，所述红外线加热单元发出红外线对所述工件加热，所述挡板将所述红外线加热单元密封在所述第一腔体中，所述红外线通过所述挡板后对所述工件进行加热。

进一步地，，第一腔体的内壁上设置有反射单元。

与现有技术相比，本发明实施例的镀膜设备的红外线通过挡板后对工件进行加热，从而使得红外线加热单元不会受到其他物质的干扰，进而使得加热稳定。

另外，反射单元反射入射至第一腔体上的红外线，红外线被反射后穿过挡板，使得较多的红外线通过挡板对工件进行加热，从而使得加热效率较高。

附图说明

图1是本发明实施例提供的镀膜设备的示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明作进一步详细说明。

如图12所示，其为本发明实施例提供的一种镀膜设备10。该镀膜设备10包括腔体11、红外线加热单元12、供气单元13、真空单元14、阴极15和阳极16。

腔体11由金属制成，其包括接地的第一腔体111和接地的第二腔体112。

红外线加热单元12设置在第一腔体111内并与第一腔体111电绝缘，其可以为红外线加热灯管、红外线加热板等。在本实施例中，第一腔体111为具有开口的拱形，其内壁设置有反射单元122、开口处设置有一挡板121。反射单元122可以为通过溅镀方法设置在第一腔体111内的薄膜，薄膜的材料主要为氧化钛和氧化硅。挡板121的材料为铝酸盐玻璃或者类金刚石碳(Diamond Like-Carbon，DLC)。其中，铝酸盐玻璃具有良好的热学、光学性质，红外线的透过率较好，其包括钙铝酸盐玻璃、锶铝酸盐玻璃、钡铝酸盐玻璃、镁铝酸盐玻璃或铍铝酸盐玻璃。

第二腔体112的一端具有开口，第一腔体111的开口与第二腔体112的开口相对形成腔体11。第二腔体112的开口端设置有旋转单元124和阳极16(一般接地)，阳极16用来固定被镀膜的工件20，旋转单元124可以带动阳极16旋转以使工件20旋转。

红外线加热单元12发出的红外线部分直接穿过挡板121照射至工件20上，工件20吸收红外线从而使得温度升高；其它部分的红外线被反射单元122反射后穿过挡板121。

阴极15位于第二腔体112的与工件20相对的一端，镀膜材料的靶30设置在阴极15上。

供气单元13和真空单元14均位于第二腔体112上，供气单元13用来向第二腔体112内输送惰性气体，例如氩气(Ar)，真空单元14的功能是用来实现第二腔体112内的真空环境。