[发明专利]葛根的优质高产栽培方法无效

专利信息
申请号: 200810302319.4 申请日: 2008-06-26
公开(公告)号: CN101292601A 公开(公告)日: 2008-10-29
发明(设计)人: 付尚松 申请(专利权)人: 付尚松
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00;A01D91/02;A01C21/00
代理公司: 贵阳中新专利商标事务所 代理人: 程新敏
地址: 553400*** 国省代码: 贵州;52
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摘要:
搜索关键词: 葛根 优质 高产 栽培 方法
【权利要求书】:

1.一种葛根的优质高产栽培方法,其特征在于:该方法包括如下步骤:

1)土地选择:选择土层深厚、土壤pH值为6~8的土地进行葛的栽培;

2)定植:首先对选择好的土地除草,深耕,施底肥,在农历2~3月份种植葛苗,葛苗的株距为70~80cm、行距为100cm,葛苗以与地面成30~40°的角度斜插,深度以幼苗芽露出土面为准,种植后浇定根水;

3)田间管理:包括支架、整枝、露晒:

(1)支架:葛苗长至20~30cm时搭支架,让葛藤缠绕其上;

(2)整枝:当葛藤爬至2米高时进行修剪,摘除1米以下的侧蔓和叶腋间长出的芽;

(3)露晒:在块根长至中指或拇指大小时,进行露晒操作,将葛根部的土挖出,使1~3cm的块根头部暴露在外。

2.按照权利要求1所述葛根的优质高产栽培方法,其特征在于:霜降后至来年初春,经过栽培的葛进入采收期,采收葛根时,用剪刀将大的块根从根茎基部剪断,留下较小的块根,覆土,加盖杂草或葛叶保温。

3.按照权利要求1所述葛根的优质高产栽培方法,其特征在于:在定植步骤,将深耕施底肥后的土地按行距成垄,葛苗栽在垄上。

4.按照权利要求1所述葛根的优质高产栽培方法,其特征在于:土地选择步骤中所选择的土地的土层厚度在1米以上,土质疏松肥沃,地下水位在1.5米以上,且排水流畅。

5.按照权利要求1所述葛根的优质高产栽培方法,其特征在于:定植步骤中所述的底肥为农家肥,施肥量为2000~2500斤/亩。

6.按照权利要求1所述葛根的优质高产栽培方法,其特征在于:在田间管理步骤,每棵葛株保留1~2条主藤,用硬按轻拔的方法拔除多余的葛藤。

7.按照权利要求1所述葛根的优质高产栽培方法,其特征在于:在露晒的同时,挖开各条块根基部的泥土,修剪多余的、造型不好的、畸形的、分枝杈的块根,修剪后的块根伤口复原后再覆土,使1~3cm的块根头部暴露在外。

8.按照权利要求1或6所述葛根的优质高产栽培方法,其特征在于:在进行露晒操作后,在葛根的周围撒草木灰。

9.按照权利要求1所述葛根的优质高产栽培方法,其特征在于:田间管理还包括浇水和施肥:

a、浇水:初苗期浇水要控制少量多次,当葛藤爬满整个支架后,保证充足的水份;

b、施肥:在葛苗定植时施过底肥后的整个葛生长期,再施肥一次并追肥一次。

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