[发明专利]镀膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜装置，尤其涉及一种具有即时监控功能的镀膜装 置。

背景技术

当前，许多工业产品表面都镀有功能薄膜以改善产品表面的各种性能。 如在光学镜片的表面镀上一层抗反射膜，以降低镜片表面的反射率，降低入 射光通过镜片的能量损耗。又如在某些滤光元件表面镀上一层滤光膜，可滤 掉某一预定波段的光，制成各种各样的滤光片。一般地，镀膜方法主要包括 离子镀膜法、射频磁控溅镀、真空蒸发法、化学气相沉积法等。Ichiki，M.等 人在2003年5月发表于2003Symposium on Design，Test，Integration and  Packaging of MEMS/MOEMS的论文Thin film formation-a fabrication on  non-planar surface by spray coating method中介绍了通过喷涂在非平面形成薄 膜的方法。

蒸镀是一种物理气相沉积技术，具体地，其通过离子束或电子束对蒸镀 材料进行加热，使蒸镀材料变成气态或离子态，而沉积在待镀工件表面以形 成一层蒸镀材料膜层。

在对工件进行镀膜时，通常是将待镀膜工件固定于镀膜伞架上，蒸镀靶 材设置于镀膜伞架下方，靶材蒸发后，扩散到镀膜工件的表面。然而在蒸镀 的过程中，有许多原因造成杂质粒子会沉积在工件表面和镀膜层中，例如镀 膜腔体或镀膜伞架上的粉尘蒸镀过程中扩散至镀膜内，又如靶材上有杂质或 靶材被氧化时，靶材会散发出杂质粒子，再如镀膜操作过程中，如工件的摆 放时均会引入杂质粒子到镀膜装置中，最终会沉积在工件表面。随着对光学 元件镀膜洁净度要求的日益提高，在元件有效光学孔径内是几乎不能有任何 其它杂质粒子沉积的，杂质粒子的存在导致产品的不良。

发明内容

因此，提供一种能够即时监控工件表面和镀膜中粒子的镀膜装置实为必 要。

本发明提供一种镀膜装置，其包括壳体及安装在壳体内的工件承载架、 蒸镀源、电子枪、修正板，所述工件承载架设置有多个容置通孔，用于承载 待镀膜工件，所述蒸镀源与所述工件承载架相对而设，所述修正板具有相对 的第一面和第二面，所述第一面与对应的蒸镀源相对设置，所述第二面与工 件承载架相对，所述镀膜装置进一步包括光源和检测装置，所述光源设置于 修正板的第二面，所述检测装置与光源相对设置，使得所述光源发出的光线 通过容置通孔内的工件而到达检测装置。

相较于现有技术，所述镀膜装置包括监测装置，通过监测装置即时检测 镀膜工件表面和镀膜层中是否有杂质粒子，根据监测的情况控制镀膜制程是 否继续进行，从而提高镀膜的洁净度，避免了镀膜工件因存在杂质粒子而产 生的不良。

附图说明

图1是本技术方案第一实施例提供的镀膜装置的示意图。

图2是图1沿II-II方向的示意图。

图3是本技术方案第二实施例提供的镀膜装置的示意图。

具体实施方式

下面将结合附图，对本技术方案作进一步的详细说明。

请参阅图1及图2，第一实施例提供一种镀膜装置100，其包括壳体10、 以及安装在所述壳体10内的工件承载架11、蒸镀源12、电子枪13、修正板 14、光源15、检测装置16及离子源17。

所述镀膜壳体10具有相对的顶板101、底板102以及位于顶板101和底 板10之间的侧板103。顶板101、底板102及侧板103围成一个腔体104。 一般而言，腔体104与一个真空系统相连以保证腔体104内的真空度。以便 进行真空镀膜制程。

工件承载架11安装于所述顶板101。工件承载架11包括伞状架体113 和旋转轴112，伞状架体113设置有多个容置通孔111，用于容置待镀膜工件。 所述多个容置通孔111大小相同，本实施例中，容置通孔111于伞状架体113 上等角度间距设置。所述旋转轴112穿过壳体10并与外部驱动装置相连(图 未示)，该外部驱动装置可以带动旋转轴112高速旋转，从而带动伞状架体 113高速旋转。

电子枪12、蒸镀源13、离子源17安装在底板102上，与工件承载架11 相对。离子源17用于对工件承载架10上的工件喷射离子束，在镀膜的过程 中，提供额外的撞击作用，促进镀膜的结晶，改善镀膜的微观组织与致密性。