[发明专利]覆盖CVD金刚石层的钻探用金刚石复合片及制作方法

权利要求书

1.一种覆盖CVD金刚石涂层的钻探用金刚石复合片，其特征是：PDC片的PCD表面沉积有一层0.01-2mm厚的CVD金刚石膜。

2.根据权利要求1所述的钻探用金刚石复合片，其特征是：PCD表面的金刚石层经过脱钴处理或未经过脱钴处理。

3.根据权利要求1、2所述的钻探用金刚石复合片的制备方法，其特征是：经过脱钴处理的PCD，在650℃以下温度，通过各种化学气相沉积的方法沉积一层0.01-2mm厚金刚石膜。

4.根据权利要求1、2所述的钻探用金刚石复合片的制备方法，其特征是：未经脱钴处理的PCD，在500℃以下温度，通过各种化学气相沉积的方法沉积一层0.01-2mm厚金刚石膜。

5.根据权利要求4所述的钻探用金刚石复合片的制备方法，其特征是：在大气气氛下，采用弧光放电、多激光束辅助分解等化学气相沉积方法，将含碳气源或液体源分解，在PCD表面沉积覆盖一层0.01-2mm厚的CVD金刚石膜。