[发明专利]显影液组成物

说明书

技术领域

本发明涉及光致刻蚀剂显影技术，尤其涉及一种用于对光致刻蚀剂进行显影的显影液组成物。

背景技术

彩色滤光片是液晶显示器中用于形成彩色图像的重要部件。在制作彩色滤光片时，通常首先在衬底基板上涂布光致刻蚀剂，所谓光致刻蚀剂即为一种感光性树脂组成物，将光致刻蚀剂进行预烤，之后采用掩模板以光罩曝光，再以显影液洗去没有用掩模板遮盖的未曝光区域的光致刻蚀剂，即可按照掩模板的图案留下所需要的光致刻蚀剂图案，具体为一矩阵图案，各矩阵点对应各个像素。目前常见的显影方式有浸渍显影、摇动显影、喷洒显影(spray)和静置显影(puddle)等。

光致刻蚀剂在曝光后进行显影时，感光性树脂组成物含有的酸性基团，如羧基等，在碱性显影溶液中被中和，从而形成水溶性的有机聚合物盐，这即表现为感光性树脂组成物在碱性显影溶液中被溶解。现有技术一般以水作为碱性显影液的溶剂，这存在着诸多缺陷：一方面，采用水作为溶剂的显影液具有比较高的表面张力，因此显影液难以迅速的、均匀的铺展到整个光致刻蚀剂的膜层上，容易造成显影不均匀、显影不完全和局部显影过度等显影缺陷。例如，光致刻蚀剂图案的边缘可能无法刻蚀整齐。另一方面，当显影液中所溶解的有机聚合物盐在显影液中饱和析出时会逐渐积累形成不溶性有机物质，最后形成水不溶性的残渣。此种残渣容易吸附在像素区域，则难以形成精确的光致刻蚀剂图案。

为了克服显影性差、残渣量大等缺点，日本专利特开平10-010749公开了一种技术方案，以阴离子活性表面剂、碱性化合物和水等制作成显影液来减少残渣量，但是显影液中的阴离子活性表面剂会残留在光致刻蚀剂表面，影响彩色滤光片的阻抗值，当彩色滤光片上的公共电极需要与阵列基板上的阵列电极配合形成电容时会有偏差。

发明内容

本发明的目的是提供一种显影液组成物，以改善显影液组成物的润湿性能，且避免残渣的形成。

为实现上述目的，本发明提供了一种显影液组成物，包括表面活性剂、碱性物质和水，其中：所述表面活性剂为非离子表面活性剂，其化学式如下：

其中m1、m2、m3和m4分别为丙氧基嵌段的个数，n1、n2、n3和n4分别为乙氧基嵌段的个数；

所述非离子表面活性剂的相对分子质量为550～30000，所述丙氧基嵌段的相对分子质量至少为500，所述乙氧基嵌段占所述非离子表面活性剂的相对分子质量百分比为10％～80％。

其中，m1、m2、m3和m4均为自然数，可以相等或不等。n1、n2、n3和n4均为自然数，可以相等或不等。

由以上技术方案可知，本发明采用了上述化学式的非离子表面活性剂，能够克服水表面张力大导致显影液组成物润湿性能不好的问题，还能避免析出的有机聚合物盐积聚形成残渣，同时，由于不含有导电的离子，所以也不会影响彩色滤光片的阻抗值。

具体实施方式

下面通过具体实施例并结合附图对本发明做进一步的详细描述。

本发明的显影液组成物也可称为显影液，可用于光致刻蚀剂的显影，其具体包括表面活性剂、碱性物质和水，且其中的表面活性剂为非离子表面活性剂，其化学式如下式(1)所示：

其中，m1、m2、m3和m4，n1、n2、n3和n4均为自然数，m1、m2、m3和m4分别为丙氧基嵌段的个数，n1、n2、n3和n4分别为乙氧基嵌段的个数。丙氧基嵌段优选是顺序相连，且m1、m2、m3和m4的具体数值可以相等或不等。乙氧基嵌段优选是顺序相连，且n1、n2、n3和n4的具体数值可以相等或不等。

该非离子表面活性剂的相对分子质量具体为550～30000，其中丙氧基嵌段的相对分子质量至少为500，乙氧基嵌段占非离子表面活性剂的相对分子质量百分比为10％～80％，m1、m2、m3和m4，n1、n2、n3和n4值由上述条件确定。

本发明的显影液组成物采用了非离子表面活性剂，与碱性物质合理配合后，可以减少或消除显影液中存在的阴离子和阳离子，因此可获得综合性能优异的显影液，在使用该显影液进行光致刻蚀剂显影时，可以迅速、均匀的润湿光致刻蚀剂以进行显影，使显影后的图案边缘整齐，且饱和析出的有机聚合物盐不会逐渐凝聚而形成不溶性有机物质，所以不会产生残渣、表面污染和颗粒。因此，本发明的显影液组成物具有润湿性好、显影性强、分散稳定性佳和无残渣等优点，同时，由于非离子表面活性剂的使用，在显影液中不易形成泡沫，因此也无须添加消泡剂，降低了成本，提高了显影液的利用率。