[发明专利]一种纳米PbS薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种纳米PbS薄膜的制备方法，其特征在于：

1)将分析纯的Pb(NO₃)₂加入蒸馏水中，搅拌后配制成Pb²⁺浓度为0.01mol/L～0.5mol/L的透明溶液，所得溶液记为A；

2)将分析纯的Na₂S₂O₃·5H₂O加入蒸馏水中，搅拌后配制成S₂O₃^2-浓度为0.01mol/L～10mol/L的透明溶液，所得溶液记为B；

3)将分析纯的乙二胺四乙酸二钠加入蒸馏水中，搅拌后配制成浓度为0.0025mol/L～0.125mol/L的透明溶液，所得溶液记为C；

4)向A溶液中分别加入溶液B和溶液C，使得混合溶液中[Pb²⁺]∶[S₂O₃^2-]∶乙二胺四乙酸二钠＝1∶(1～20)∶0.25的摩尔比，并不断搅拌，调节pH值为1.5～4.0，形成前驱物溶液，所得溶液记为D；

5)将D溶液加入电沉积装置中，以石墨为阳极，乙醇、去离子水中超声清洗后的ITO玻璃作阴极，阴极上装有电动搅拌头使阴极保持均匀的转动，将装有上述D溶液的装置放入超声发生器中，并将阳极和阴极两个电极置于D溶液中，使阳极和阴极的间距为3-5cm；

6)采用超声阴极旋转恒电压沉积法在ITO基板上制备PbS薄膜，沉积电压为2.0～18V，沉积时间为10～60min，超声功率为50～500W，阴极旋转速度为5～60转/分钟，沉积结束后将所制备的薄膜用去离子水洗涤干净，在真空干燥箱中于50～100℃干燥，即得最终产物PbS薄膜。