[发明专利]废液处理方法

权利要求书

1.一种废液处理方法，其用于处理含铜离子的废液，该方法包括以下步骤：

调整该废液的pH值；

加入沉淀剂，与该废液反应形成铜化合物的溶液；以及

针对该废液进行对该铜化合物的分离作业，使该废液分离出该铜化合物及第一分离液；

从而，实质上移除含有该废液中的铜离子。

2.如权利要求1所述的废液处理方法，在分离该铜化合物及该废液后还包括下列步骤：

将该铜化合物去除水分，以得到无水铜化合物且去除的水分形成第二分离液；以及

纯化该无水铜化合物，得到铜盐。

3.如权利要求2所述的废液处理方法，在将该铜化合物去除水分的步骤中，其中去除水分的方法为压滤法。

4.如权利要求2所述的废液处理方法，该铜化合物包括碳酸铜、氧化铜、氢氧化铜或其混合物。

5.如权利要求2所述的废液处理方法，该铜盐包括碳酸铜、氧化铜或氢氧化铜。

6.如权利要求2所述的废液处理方法，该废液还包括硫酸根离子，使得该第一分离液及该第二分离液分别包括硫酸根离子。

7.如权利要求6所述的废液处理方法，在将该铜化合物去除水分后，还包括下列步骤：

将该第一分离液及该第二分离液混合形成混合液；

加入氢氧化钙溶液，该氢氧化钙溶液与该混合液反应形成含硫酸钙的溶液，且剩余的混合液形成第三分离液；以及

针对该含硫酸钙的溶液进行对该硫酸钙的分离作业，使该废液分离出该硫酸钙及第三分离液；

从而，实质上移除含有该硫酸根离子的废液。

8.如权利要求7所述的废液处理方法，包括下列步骤：

使钙离子与硫酸根离子的比例实质上等于1或小于1。

9.如权利要求7所述的废液处理方法，在加入氢氧化钙溶液后，还包括下列步骤：

加入硫酸至该第三分离液，以降低pH值并回收。

10.如权利要求9所述的废液处理方法，该硫酸浓度实质上介于10cc/L～25cc/L间。

11.如权利要求1所述的废液处理方法，在调整该废液pH值的步骤中，加入碱性溶液以调整该pH值。

12.如权利要求11所述的废液处理方法，该碱性溶液为氢氧化钠溶液。

13.如权利要求1所述的废液处理方法，在针对该废液进行对该铜化合物分离作业的步骤中，其中分离作业使用高速沉降法使该铜化合物自废液中分离。

14.如权利要求1所述的废液处理方法，该pH值调整后实质上介于1～3之间。

15.如权利要求1所述的废液处理方法，该沉淀剂为碳酸钠溶液。

16.如权利要求1所述的废液处理方法，该沉淀剂为液碱或液碱与碳酸钠的混合物。

17.如权利要求15所述的废液处理方法，该碳酸钠溶液温度实质上为介于45℃～55℃间且包括实质上介于350～450克间碳酸钠的碳酸钠溶液。

18.如权利要求15所述的废液处理方法，该碳酸钠溶液温度实质上为介于15℃～60℃间且包括实质上介于100～350克碳酸钠的碳酸钠溶液。

19.如权利要求1所述的废液处理方法，在加入沉淀剂时，当该pH值实质上升高至介于7.0～7.5间时，则停止加入该沉淀剂。

20.如权利要求1所述的废液处理方法，在加入沉淀剂步骤中，还包括下列步骤：

加入添加剂。

21.如权利要求20所述的废液处理方法，该添加剂包括至少一表面活性剂及至少一助凝剂。

22.如权利要求20所述的废液处理方法，该添加剂实质上占介于该废液总容量的10～100ppm间。

23.如权利要求1所述的废液处理方法，该废液为电路板工艺中的微蚀刻废液。

24.如权利要求1所述的废液处理方法，该废液为电路板工艺中的含铜的水洗水废液。

25.如权利要求1所述的废液处理方法，该废液为电路板工艺中的水洗水经离子交换树脂吸收逆洗后的含铜的水洗水废液。