[发明专利]基板保持装置及基板分离方法无效

专利信息
申请号: 200810213791.0 申请日: 2008-09-08
公开(公告)号: CN101382414A 公开(公告)日: 2009-03-11
发明(设计)人: 井上勇辉 申请(专利权)人: 欧姆龙株式会社
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 保持 装置 分离 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及基板处理装置所使用的基板保持装置及将处理后的基板分离 的方法,该基板处理装置对玻璃基板等基板进行曝光、显影等处理或进行基 板表面图案的尺寸计测及特性检查等处理。

背景技术

在上述基板处理装置中,将搬入并载置于工作台上的基板进行真空吸附 保持,若完成规定的处理,则解除真空吸附,将处理完的基板从工作台分离 并搬出,但是,基板因带电而被牢固地吸附于工作台上,在该状态下,若强 行将基板取出,则基板可能会产生破损。因此,可采取如下方法,对工作台 表面实施防带电处理,或者如专利文献1所公开的那样,自离子产生器(イ オナイザ)吹出离子化的气体进行除电。

专利文献1:(日本)特开2003-100821号公报

但是,在对工作台表面实施防带电处理的前一种方法中,虽然刚开始可 以发挥期望的防带电功能,但是,随着进行重复处理,带电量逐渐增加,将 导致不能发挥期望的功能,从而需要再次实施防带电处理,在此期间需要强 制中断基板处理。

另外,在自离子产生器吹出离子化气体而进行除电的后一种方法中,由 于从上方将离子化气体吹送到载置于工作台的基板上,因而不能够充分进行 工作台和基板的接触面上的除电。

发明内容

本发明是着眼于上述问题点而作出的,其目的在于提供一种基板保持装 置及基板分离方法,能够充分地进行工作台和基板的接触面上的除电。

(1)本发明的基板保持装置具备载置基板的工作台,在所述工作台的表 面侧设置有向基板的背面吹送来自离子产生器的离子化气体而进行除电的吹 出口。

工作台既可为可移动式,也可为固定式。

离子产生器既可与工作台一体设置,也可与工作台分体设置。

吹出口既可形成于工作台本体,也可将形成有吹出口的配管等设置于工 作台上。

根据本发明的基板保持装置,利用自工作台表面侧的吹出口吹出的离子 化气体,将基板背面与工作台的接触面上的带电电荷中和,从而可切实地进 行除电,由此,不会使处理完的基板产生静电破坏等,能够顺畅地将其从工 作台剥离并搬出。

(2)在本发明的基板保持装置的一实施方式中,在所述工作台的表面具 备吸附保持所述基板的吸附槽。

根据该实施方式,通过利用吸附槽吸附载置于工作台的基板,能够稳定 地对其进行保持。

(3)在本发明的基板保持装置的优选实施方式中,将与所述离子产生器 连通连接的配管埋设在形成于所述工作台表面的槽内,且在该配管上形成所 述吹出口。

根据该实施方式,能够经由配管将来自离子产生器的离子化气体有效地 吹送到基板的背面而进行除电。

(4)在上述(3)的实施方式中,也可以将所述离子产生器分别与所述 配管的两端连通连接。

根据该实施方式,由于从配管的两端供给离子化气体,因此,即使配管 较长,也能够自吹出口均匀地吹出离子化气体,从而能够均匀且切实地进行 基板背面的除电。

(5)在本发明的基板保持装置的其它实施方式中,将自所述工作台提升 所述基板的多个提升销进退自如地配置在所述工作台上。

根据该实施方式,利用离子化气体的吹送进行除电之后,使位于退入待 机状态的提升销突出到工作台上,由此能够无阻力地提升基板并将其顺畅地 搬出。该情况下,通过以合适的压力自吹出口吹送离子化气体,从而可更加 顺畅地提升基板。

(6)本发明的基板分离方法包括如下步骤:将离子化气体从设于载置有 基板的工作台表面的吹出口吹出并吹送到所述基板背面而进行除电;从工作 台上取下所述基板。

根据本发明的基板分离方法,利用自工作台的吹出口吹出的离子化气体, 将基板背面与工作台的接触面上的带电电荷中和,从而可切实地进行除电, 由此,不会使处理完的基板产生静电破坏等,能够将其顺畅地从工作台上剥 离而进行分离。

根据本发明,能够充分进行工作台和基板的接触面上的除电,并能够将 处理完的基板从工作台上顺畅地剥离并搬出而不发生静电破坏等。

附图说明

图1是基板保持装置的平面图;

图2是基板保持装置的纵剖侧视图;

图3是基板保持装置的立体图;

图4是离子化气体引出部的纵剖面图;

图5是其它实施方式的使用配管的离子化气体引出部的纵剖面图;

图6是又一实施方式的使用配管的离子化气体引出部的纵剖面图;

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