[发明专利]基板保持装置及基板分离方法无效
| 申请号： | 200810213791.0 | 申请日： | 2008-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN101382414A | 公开（公告）日： | 2009-03-11 |
| 发明（设计）人： | 井上勇辉 | 申请（专利权）人： | 欧姆龙株式会社 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 保持 装置 分离 方法 | ||
【权利要求书】：
1、一种基板保持装置，其特征在于，具备载置基板的工作台，在所述 工作台的表面侧设置有向基板的背面吹送来自离子产生器的离子化气体而 进行除电的吹出口。
2、如权利要求1所述的基板保持装置，其特征在于，在所述工作台的 表面具备吸附保持所述基板的吸附槽。
3、如权利要求1或2所述的基板保持装置，其特征在于，将与所述离 子产生器连通连接的配管埋设在形成于所述工作台表面的槽内，并在该配管 上形成所述吹出口。
4、如权利要求3所述的基板保持装置，其特征在于，将所述离子产生 器分别与所述配管的两端连通连接。
5、如权利要求1～4中任一项所述的基板保持装置，其特征在于，将从 所述工作台提升所述基板的多个提升销进退自如地配置在所述工作台上。
6、一种基板分离方法，其特征在于，包括如下步骤:
将离子化气体从设于载置有基板的工作台表面的吹出口吹出并吹送到 所述基板背面而进行除电；
从工作台上取下所述基板的步骤。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于欧姆龙株式会社，未经欧姆龙株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810213791.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
