[发明专利]可挠式显示面板及其制造方法、光电装置及其制造方法

权利要求书

1.一种可挠式显示面板的制造方法，其特征在于，包括：

提供一第一玻璃基板以及一第二玻璃基板；

在该第一玻璃基板的内表面上依序形成一第一蚀刻终止层以及一主动层；

在该第二玻璃基板的内表面上依序形成一第二蚀刻终止层以及一覆盖层；

在该第一与该第二玻璃基板之间形成一显示介质，并将该第一与该第二玻璃基板组立在一起；

在该第二玻璃基板的外表面形成一第一保护层；

进行一第一蚀刻程序，以将该第一玻璃基板完全移除，而暴露出该第一蚀刻终止层；

在暴露的该第一蚀刻终止层的表面上形成一第一可挠式基材，并且于该第一可挠式基材上形成一第二保护层；

移除该第二玻璃基板的外表面上的该第一保护层；

进行一第二蚀刻程序，以将该第二玻璃基板完全移除，而暴露出该第二蚀刻终止层；以及

在暴露的该第二蚀刻终止层的表面上形成一第二可挠式基材，并且移除该第一可挠式基材上的该第二保护层。

2.如权利要求1所述的可挠式显示面板的制造方法，其特征在于，该第一与第二蚀刻终止层的材质包括介电材料或是聚酰胺类其中至少一者。

3.如权利要求2所述的可挠式显示面板的制造方法，其特征在于，该介电材料为富含硅的介电材料。

4.如权利要求3所述的可挠式显示面板的制造方法，其特征在于，富含硅的介电材料为富含硅的氮化硅时，该富含硅的氮化硅的硅原子对氮原子的比例为大于或等于1。

5.如权利要求1所述的可挠式显示面板的制造方法，其特征在于，该第一与第二蚀刻终止层对该第一与该第二玻璃基板的蚀刻选择比大于或等于20。

6.如权利要求1所述的可挠式显示面板的制造方法，其特征在于，该第一与第二蚀刻程序其中至少一者包含第一次蚀刻步骤及第二次蚀刻步骤，且该第一次蚀刻步骤的蚀刻速率大于该第二次蚀刻步骤的蚀刻速率。

7.如权利要求1所述的可挠式显示面板的制造方法，其特征在于，该第一与该第二可挠式基材包括塑料基材、金属基材、具有曲度的玻璃、或上述至少二者的组合。

8.如权利要求1所述的可挠式显示面板的制造方法，其特征在于，该第一与该第二可挠式基材其中至少一者具有极化、相位差、增光、或是上述至少二者的功能。

9.如权利要求1所述的可挠式显示面板的制造方法，其特征在于，还包括于该第一蚀刻终止层与该主动层之间与该第二蚀刻终止层与该覆盖层之间其中至少一者形成一黏着层。

10.一种可挠式显示面板，其特征在于，包括：

一第一可挠式基材，且该第一可挠式基材上依序配置有一第一蚀刻终止层以及一主动层，其中该第一蚀刻终止层的材质包括聚酰胺类或富含硅的氮化硅；

一第二可挠式基材，且该第二可挠式基材的下表面依序配置有一第二蚀刻终止层以及一覆盖层，其中该第二蚀刻终止层的材质包括聚酰胺类或富含硅的介电材料；以及

一显示介质，位于该主动层与该覆盖层之间。

11.如权利要求10所述的可挠式显示面板，其特征在于，该第一与该第二可挠式基材包括塑料基材、金属基材、具有曲度的玻璃、或上述的组合。

12.如权利要求10所述的可挠式显示面板，其特征在于，该第一与该第二可挠式基材具有极化、相位差、增光、或是上述至少二者的功能。

13.如权利要求10所述的可挠式显示面板，其特征在于，还包括于该第一蚀刻终止层与该主动层之间与该第二蚀刻终止层与该覆盖层之间其中，至少一者配置一黏着层。

14.一种光电装置的制造方法，包含如权利要求1所述的可挠式显示面板的制造方法。

15.一种光电装置，包含如权利要求11所述的可挠式显示面板。