[发明专利]用于水润滑的织构化类金刚石复合薄膜的制备方法有效
申请号: | 200810189022.1 | 申请日: | 2008-12-19 |
公开(公告)号: | CN101748370A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
发明(设计)人: | 王立平;胡丽天;丁奇;张广安;薛群基 | 申请(专利权)人: | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/06;C23C14/02;C23C14/54 |
代理公司: | 兰州中科华西专利代理有限公司 62002 | 代理人: | 方晓佳 |
地址: | 730000 甘*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 润滑 织构化类 金刚石 复合 薄膜 制备 方法 | ||
1.一种用于水润滑的织构化类金刚石复合薄膜的制备方法,其特征在于该 方法依次按照下列步骤实现:
A、激光表面微造型:
对不锈钢、钛合金或碳化硅陶瓷工件进行抛光、除油以及清洗预处理,然后 采用Nd-YAG固体激光器,波长1064nm,脉宽4ns,调节激光总能量为3W、将 激光脉冲次数控制在1~5次、光斑直径为20μm、扫描速率2~6mm/s,在工件表面 形成微造型表面;
B、磁控溅射沉积织构化钛掺杂类金刚石薄膜:
将得到的微造型表面进行清洗及活化处理,采用磁控溅射沉积系统在样品表 面依次沉积钛过渡层和掺钛类金刚石复合薄膜;沉积过程中,真空室的放电气压 为0.8~1.2Pa,氩气气氛,阴极为高纯钛靶和石墨靶,钛靶的工作电流维持在 0.5~0.8A,石墨靶的工作电流维持在1.0~1.5A,基底所加偏压为-300~-600V, 沉积时间为100~200分钟,最后得到织构化类金刚石复合薄膜。
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