[发明专利]光致抗蚀剂去除用组合物和用其制造阵列基板的方法无效
申请号: | 200810185042.1 | 申请日: | 2008-12-26 |
公开(公告)号: | CN101692155A | 公开(公告)日: | 2010-04-07 |
发明(设计)人: | 洪瑄英;朴弘植;郑锺铉;金俸均;李炳珍;金柄郁;郑宗铉;尹锡壹;辛成健;许舜范;郑世桓;张斗瑛 | 申请(专利权)人: | 株式会社东进世美肯 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42;G03F7/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香兰 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光致抗蚀剂 去除 组合 制造 阵列 方法 | ||
1.一种光致抗蚀剂去除用组合物,所述组合物包含:
a)包含环胺和/或二元胺的胺化合物;
b)乙二醇醚类化合物;
c)缓蚀剂;和
d)极性溶剂。
2.如权利要求1所述的组合物,其中,所述乙二醇醚类化合物是选自由乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇丁醚、二乙二醇丙醚、三乙二醇甲醚、三乙二醇乙醚和三乙二醇丁醚组成的组中的物质。
3.如权利要求1所述的组合物,其中,所述乙二醇醚类化合物的含量为所述组合物总重量的约10重量%~约90重量%。
4.如权利要求3所述的组合物,其中,所述乙二醇醚类化合物的含量为所述组合物总重量的约40重量%~约70重量%。
5.如权利要求1所述的组合物,其中,所述乙二醇醚类化合物包括二乙二醇甲醚。
6.如权利要求1所述的组合物,其中,所述极性溶剂是选自由N-甲基-2-吡咯烷酮、N-甲基乙酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、乙酰胺、N-乙基乙酰胺、N,N-二乙基乙酰胺、甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N-乙基甲酰胺、N,N-二乙基甲酰胺、N,N-二甲基咪唑、N-芳基甲酰胺、N-丁基甲酰胺、N-丙基甲酰胺和N-戊基甲酰胺组成的组中的物质。
7.如权利要求1所述的组合物,其中,所述极性溶剂包括甲酰胺类化合物。
8.如权利要求7所述的组合物,其中,所述极性溶剂包括N-甲基甲酰胺。
9.如权利要求1所述的组合物,其中,所述极性溶剂的含量是所述组合物总重量的约5重量%~约70重量%。
10.如权利要求8所述的组合物,其中,所述极性溶剂的含量是所述组合物总重量的约20重量%~约50重量%。
11.如权利要求1所述的组合物,其中,所述胺化合物是选自由1-(2-羟基乙基)哌嗪、1-(2-氨基乙基)哌嗪、1-(2-羟基乙基)-4-甲基哌嗪、N-(3-氨基丙基)吗啉、2-甲基哌嗪、1-甲基哌嗪、4-氨基-1-甲基哌嗪、1-苄基哌嗪、1-苯基哌嗪、2-[(2-氨基乙基)氨基]乙醇、2-[(2-氨基甲基)氨基]甲醇、1-[(2-氨基乙基)氨基]-2-丙醇、2-{[2-(甲基氨基)乙基]氨基}乙醇、2-[(2-氨基-2-甲基丙基)氨基]乙醇和氨基-二-丙醇胺组成的组中的物质。
12.如权利要求1所述的组合物,其中,所述胺化合物的含量是所述组合物总重量的约1重量%~约20重量%。
13.如权利要求12所述的组合物,其中,所述胺化合物的含量是所述光致抗蚀剂去除用组合物总重量的约2重量%~约10重量%。
14.如权利要求1所述的组合物,其中,所述组合物还包含剥离助剂。
15.如权利要求14所述的组合物,其中,所述剥离助剂是选自由单甲醇胺、乙二胺、2-(2-氨基乙氧基)乙醇、1-氨基-2-丙醇、二乙醇胺、氨基-二-丙醇胺、2-甲基氨基乙醇、N-甲基乙醇胺和三乙基氨基乙醇组成的组中的物质。
16.如权利要求14所述的组合物,其中,所述剥离助剂的含量是所述光致抗蚀剂去除用组合物总重量的约1重量%~约10重量%。
17.如权利要求16所述的组合物,其中,所述剥离助剂的含量是所述组合物总重量的约1重量%~约5重量%。
18.如权利要求1所述的组合物,其中,所述缓蚀剂是选自由苯并三唑、甲苯并三唑、巯基苯并咪唑、巯基甲基苯并咪唑、巯基甲基咪唑、羟基吡啶、二羟基吡啶、三羟基苯甲酸甲酯、儿茶酚、连苯三酚、L-抗坏血酸和D-异抗坏血酸组成的组中的物质。
19.如权利要求1所述的组合物,其中,所述缓蚀剂的含量是所述组合物的总重量的约0.1重量%~约5重量%。
20.如权利要求19所述的组合物,其中,所述缓蚀剂的含量是所述组合物的总重量的约0.3重量%~约1重量%。
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