[发明专利]半导体集成电路、以及信号传输电路无效
| 申请号: | 200810182658.3 | 申请日: | 2006-02-17 | 
| 公开(公告)号: | CN101425801A | 公开(公告)日: | 2009-05-06 | 
| 发明(设计)人: | 伊藤稔;志村秀吉 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 | 
| 主分类号: | H03K19/00 | 分类号: | H03K19/00;H01L27/12 | 
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 邸万奎 | 
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP | 
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 | 
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 半导体 集成电路 以及 信号 传输 电路 | ||
本申请为以下专利申请的分案申请:申请日为2006年2月17日,申请 号为200680006243.X,发明名称为《半导体集成电路、半导体集成电路的控 制方法以及信号传输电路》。
技术领域
本发明涉及半导体集成电路、其控制方法以及信号传输电路。尤其涉及 实现高速动作和低功耗的半导体集成电路。
背景技术
近年来,强烈需要实现半导体集成电路的高速化及低功耗化。为了实现 半导体集成电路的高速化,已知是除了将半导体电路微细化而使金属绝缘半 导体(Metal Insulated Semiconductor,金属绝缘半导体)晶体管或者MOS(Metal Oxide Semiconductor,金属氧化物半导体)晶体管的栅极长度变短之外,降低 阈值电压是非常有效的。
然而,如果将阈值电压设定得太低,则作为流动在MOS晶体管的源极 与漏极之间的不必要的电流的亚阈值漏电流增大,由此产生半导体集成电路 的消耗功率变得非常大的问题。
以往,使各自的P沟道MOS晶体管的衬底电位(Vbp)以及各自的N沟道 MOS晶体管的衬底电位(Vbn)共用,对高速单元(cell)增大高电位端电位(Vdd) 与低电位端电位(Vss)之间的电位差,而对低功率单元减小电源电压的方法为 众所周知(例如,专利文献1的图1)。
也就是说,通过对高速单元施加较大的电源电压,同时正向地施加衬底 偏压,由此将阈值电压设定为较小的值。而且,对低功率单元施加较小的电 源电压,同时反向地施加衬底偏压,由此将阈值电压设定为较大的值。
另外,已知在从电源电压较小的逻辑电路向电源电压较大的逻辑电路传 达信号的情况下,放大发送端电路的输出振幅以超过接收端电路的开关电压, 并且以防止接收端电路的贯通电流为目的,在所述电路之间设置电平移位 (level shift)电路(专利文献1)。
专利文献1:日本专利申请特开2001-332695号公报
发明内容
发明要解决的问题
然而,专利文献1所公开的方法,硅衬底上的P沟道MOS晶体管的衬 底(阱(well)区)互相之间以及N沟道MOS晶体管的衬底(阱区)互相之间为共 用,所以在MOS晶体管的驱动能力控制以及集成电路的低功耗控制的自由度 上有限制。所以,上述的方法中存在的问题是在驱动能力控制以及低功耗控 制上只能得到有限的效果。之所以使MOS晶体管的衬底(阱区)共用,是因 为在常规的CMOS工艺中,与硅衬底相同的导电型的阱区互相之间难以实现 电气分离的结构上的原因。
图14是表示在P型硅衬底上形成的常规的P沟道MOS晶体管以及N沟 道MOS晶体管的断面结构的图。图14表示P型硅衬底90的例子,虽然N-阱92和94互相之间可以电气分离,但是P-阱91和93互相之间由于通过P 型硅衬底被电气连接,所以无法电气分离。另外,虽然在图14中未示出,在 为N型硅衬底的情况下,P-阱互相之间可以电气分离,但是N-阱互相之间由 于通过N型硅衬底被电气连接。另外,虽然可以考虑采用多层阱结构的方法, 但是由于制造工艺变得复杂,而且需要解决CMOS结构上特有的闩锁(latch up) 现象的问题。
另外,如以往的例子所示,在从电源电压较小的逻辑电路向电源电压较 大的逻辑电路传达信号的情况下,插入电平移动电路。由此,逻辑电路的延 迟时间会加长而妨碍高速动作的进行。而且,还存在电路规模会增大的问题。
本发明的目的在于提供半导体集成电路、半导体集成电路的控制方法以 及信号传输电路,能够实现半导体集成电路的性能的最佳化以及消耗功率的 降低。
解决问题的方案
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810182658.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:薯渣脱水方法及设备
- 下一篇:分离、纯化和回收SF6、HFC和PFC的方法





