[发明专利]具有优异的耐刮擦性和表面滑移性质的抗反射膜无效
| 申请号: | 200810176077.9 | 申请日: | 2008-11-11 |
| 公开(公告)号: | CN101581801A | 公开(公告)日: | 2009-11-18 |
| 发明(设计)人: | 崔光辉;赵荣镐;严相烈;李文馥;徐正泰 | 申请(专利权)人: | 东丽世韩有限公司 |
| 主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;B32B5/16;B32B33/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 宋 莉 |
| 地址: | 韩国庆*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 优异 耐刮擦性 表面 滑移 性质 反射 | ||
技术领域
本发明涉及一种具有优异的耐刮擦性和表面滑移性质的抗反射膜,并且更具体而言,涉及一种具有优异的耐刮擦性和表面滑移性质的抗反射膜,其中表面摩擦系数降低,使得耐刮擦性提高且表面滑移性质优异,由此防止当移动显示器的位置以调整视角等时的嘎吱声,并有效地防止从显示装置表面的光反射且降低生产成本。
背景技术
通常,显示器如等离子体显示面板(PDP)、阴极射线管(CRT)、液晶显示器(LCD)等具有从外部入射的光的反射使得难以看见所显示的图像的问题。特别是随着近来平板显示器变得更大,解决上述问题变得更为重要。
为了解决上述问题,迄今抗反射或抗眩光处理已应用于各种显示器。作为一个实例,抗反射膜被应用于各种显示器中。图1说明抗反射膜的原理。
这种抗反射膜已通过以下方法制造:在基底膜上涂覆具有低折射率的材料(MgF2)作为薄膜,或者通过干式涂覆方法如沉积、溅射等将具有高折射率的材料(锡掺杂氧化铟(ITO)、锡掺杂氧化锑(ATO)、ZnO、TiO2等)和具有低折射率的材料(MgF2、SiO2等)交替地堆叠在基底膜上。然而,干式涂覆方法太昂贵以至于不能商业制造和销售抗反射膜。
为了克服上述缺点,近来已尝试湿式涂覆方法来制造抗反射膜,且其处于实际的商业使用中。然而,与通过干式涂覆方法制造的抗反射膜相比,通过湿式涂覆方法制造的抗反射膜在耐刮擦性方面恶化。
抗反射膜设置在显示器如PDP、CRT、LCD等的最外部位置,并且具有防止由于从外部入射的光的反射引起的图像质量的降低的抗反射、防止外部污染物的防污染、对由于外部机械摩擦引起的刮擦的耐受性等主要性质。
除所述主要性质之外,表面滑移性质近来已变得重要。如果表面滑移性质差,则当清洁显示器或移动显示器以调整视角时,由于框架与抗反射膜之间的摩擦而产生嘎吱声,使得消费者可抱怨。
因此,除前述主要性质之外,抗反射膜还必须具有良好的表面滑移性质,并且正在需要这样的抗反射膜。
发明内容
构思本发明以解决上述问题,并且本发明的目的在于提供一种具有优异的耐刮擦性和表面滑移性质的抗反射膜,该抗反射膜具有优异的耐刮擦性和表面滑移性质,并可有效地防止从显示装置表面的光反射且降低生产成本。
从阅读参照附图说明本发明优选实施方式的以下描述,本发明的上述和进一步的目的及优点将变得更加明晰。
上述目的通过提供一种具有优异的耐刮擦性和表面滑移性质的抗反射膜实现,其中含有(甲基)丙烯酸酯化合物的硬涂层110、含有粘合剂树脂和导电颗粒的高折射层120以及含有氟化合物的低折射层130顺序堆叠在基底膜100的至少一侧上,其中低折射层130的表面是细微粗糙的,并且在低折射层130侧上的静摩擦系数等于或小于0.5且动摩擦系数等于或小于0.7。
在此,低折射层130含有15-25重量份的空心二氧化硅,基于100重量份的粘合剂树脂。
优选地,本发明的特征在于抗反射膜中的雾度小于3.0%。
优选地,本发明的特征在于抗反射膜在380nm的波长范围内具有小于5%的透射率。
优选地,本发明的特征在于硬涂层110的厚度为1μm-50μm。
优选地,本发明的特征在于高折射层120的厚度为0.01μm-1.0μm,且低折射层130的厚度为0.01μm-1.0μm。
优选地,本发明的特征在于高折射层120中的导电颗粒为金属氧化物颗粒。
优选地,本发明的特征在于高折射层120中的粘合剂树脂与导电颗粒的重量比为10/90-30/70。
优选地,本发明的特征在于低折射层130的氟化合物为在主链中具有乙烯基醚结构的含氟共聚物。
优选地,本发明的特征在于低折射层130含有粒度为0.001μm-0.2μm的二氧化硅颗粒。
优选地,本发明的特征在于二氧化硅颗粒具有两种或更多种类型的组分的粒度分布。
优选地,本发明的特征在于低折射层130进一步包含由以下化学式1表示的硅烷偶联剂、或其水解产物、或其反应物:
[化学式1]
R(1)aR(2)bSiX4-(a+b),
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