[发明专利]具有优异的耐刮擦性和表面滑移性质的抗反射膜

权利要求书

1.一种具有优异的耐刮擦性和表面滑移性质的抗反射膜，其中含有(甲基)丙烯酸酯化合物的硬涂层110、含有粘合剂树脂和导电颗粒的高折射层120、以及含有氟化合物的低折射层130顺序堆叠在基底膜100的至少一侧上，其中该低折射层130的表面是细微粗糙的，并且在该低折射层130侧上的静摩擦系数等于或小于0.5且动摩擦系数等于或小于0.7。

2.权利要求1的膜，其中该低折射层130含有15-25重量份的空心二氧化硅，基于100重量份的该粘合剂树脂。

3.权利要求1的膜，其中该抗反射膜中的雾度小于3.0％。

4.权利要求1的膜，其中该抗反射膜在380nm的波长范围内具有小于5％的透射率。

5.权利要求1的膜，其中该硬涂层110的厚度为1μm-50μm。

6.权利要求1的膜，其中该高折射层120的厚度为0.01μm-1.0μm，并且该低折射层130的厚度为0.01μm-1.0μm。

7.权利要求1的膜，其中该高折射层120中的该导电颗粒为金属氧化物颗粒。

8.权利要求1的膜，其中该高折射层120中的该粘合剂树脂与该导电颗粒的重量比为10/90-30/70。

9.权利要求1的膜，其中该低折射层130的该氟化合物为在主链中具有乙烯基醚结构的含氟共聚物。

10.权利要求1的膜，其中该低折射层130含有粒度为0.001μm-0.2μm的二氧化硅颗粒。

11.权利要求10的膜，其中该二氧化硅颗粒具有两种或更多种类型的组分的粒度分布。

12.权利要求1的膜，其中该低折射层130进一步含有由以下化学式1表示的硅烷偶联剂、或其水解产物、或其反应物：

[化学式1]

R(1)_aR(2)_bSiX_4-(a+b)，

其中，R(1)或R(2)为具有烷基、链烯基、烯丙基、或卤素基团、环氧基团、氨基、巯基、甲基丙烯酰氧基或氰基的碳氢基团；

X为选自烷氧基、烷氧基-烷氧基、卤素基团或酰氧基的可水解的取代基；和

a和b各自为0、1或2，并且(a+b)为1、2或3。

13.权利要求1的膜，其中该低折射层130中的该氟化合物进一步包含具有由以下化学式2表示的烷氧基甲硅烷基的氟树脂或其水解产物：

[化学式2]

R(3)_cR(4)_dSiX_4-(c+d)，

其中，R(3)或R(4)为具有氟化的烷基、链烯基、烯丙基、甲基丙烯酰氧基或(甲基)丙烯酰基的烃基；

X为选自烷氧基、烷氧基烷氧基、卤素基团或酰氧基的可水解的取代基；和

c和d各自为0、1、2或3，并且(c+d)为1、2或3。