[发明专利]曝光装置、器件制造方法

权利要求书

1.一种通过液体将曝光用光照射到基板对基板进行曝光的曝光 装置，其特征在于包括：

投影光学系统，将图形像投影到基板上；

保持上述基板并且可以移动的可动构件；和

液体供给机构，将液体供给到上述投影光学系统与基板之间，

上述液体供给机构在检测到上述可动构件与上述投影光学系统 的位置关系的异常时停止液体的供给。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于还包括：

电气设备，

为了防止因液体的附着而引起的漏电，当检测到上述位置关系的 异常时停止向上述电气设备的供电。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于：

上述电气设备包含用于使上述可动构件移动的线性电动机。

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于：

上述可动构件包括用于吸附保持上述基板的吸气口，

为了防止液体的流入，当检测到上述位置关系的异常时，停止从 上述吸气口的吸气。

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于包括：

基板底板，在支撑上述可动构件的上面形成导向面，

上述可动构件包括针对上述导向面以非接触的方式使上述可动 构件移动的空气轴承，

为了防止液体的流入，当检测到上述位置关系的异常时，停止从 设置在上述空气轴承的吸气口对上述可动构件与上述导向面之间的气 体进行吸气。

6.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于：

上述异常的位置关系为不能在上述投影光学系统之下保持液体 的状态。

7.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于包括：

上述可动构件上的第1区域；和

包含上述投影光学系统的像面侧前端部分、与上述第1区域相对 的第2区域，

上述液体保持于上述第1区域的至少一部分与上述第2区域之间 形成液浸区域，上述投影光学系统和上述可动构件的位置关系的异常 包含上述第1区域与上述第2区域的位置关系的异常。

8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于：

上述异常的位置关系包含上述液浸区域的至少一部分比起上述 第1区域伸出到更外侧的状态。

9.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于：

当检测到上述位置关系的异常时，停止上述可动构件的移动。

10.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于包括：

检测器，检测液体的泄漏；和

控制装置，基于上述检测器的检测结果，对装置的动作进行控制。

11.根据权利要求10所述的曝光装置，其特征在于还包括：

电气设备，

上述检测器分别设于多个预定位置，

上述控制装置依照检测出液体的泄漏的检测器的位置，选择停止 上述液体供给机构的液体供给和停止向上述电气设备的供电中的至少 一个动作。

12.根据权利要求10所述的曝光装置，其特征在于还包括：

电气设备，

上述控制装置依照使用上述检测器检测出的液体的泄漏量，选择 停止上述液体供给机构的液体供给和停止向上述电气设备的供电中的 至少一个动作。

13.根据权利要求10所述的曝光装置，其特征在于：

上述检测器配置在保持上述基板的基板台。

14.根据权利要求10所述的曝光装置，其特征在于：

上述检测器配置在可移动地支承保持上述基板的基板台的底座 构件上。