[发明专利]基板热处理炉

说明书

技术领域

本发明涉及一种对液晶显示装置用玻璃基板、PDP(等离子显示器)用玻璃基板、半导体晶片等薄板状电子部件用基板(下面仅称作“基板”)进行加热处理的基板热处理炉。

背景技术

在滤色器(Color Filter)的制造工序中，存在有对通过喷墨而着落了彩色墨水的玻璃基板进行烧成的工序。该烧成工序是通过在升温至规定的烧成温度的烧成炉内，在大气环境下将玻璃基板保持规定时间来进行的。另外，在玻璃基板上形成金属布线的情况下，在同样的烧成炉内，在氮气等非活性气体的环境下对玻璃基板进行烧成。在任意的烧成处理工序中都会因玻璃基板上的彩色墨水等被烧成物中所包含的有机溶剂挥发或者氧化并热分解，由此产生大量的有机物并扩散到环境中。

因此，在烧成处理中不断地向烧成炉送去清洁的热风，并且持续进行排气，使得有机物不滞留在烧成炉内。由于不能将含有大量的从烧成炉排出的有机物的气体直接排出到外部气体中，因此通过洗涤器(scrubber)等进行捕集排气中的有机物的处理。

另一方面，从节省能量的观点出发，进行着在从烧成炉排出的热风与向烧成炉内新供给的气体之间进行热交换的尝试。即，若通过洗涤器处理来自烧成炉的排气则被带走的热能量非常多，能量效率低，因此将被排出的气体和新供给的气体导入热交换器，通过在它们之间进行热交换，尝试着回收从烧成炉排出的热量。

若将从烧成炉排出的气体直接导入热交换器内，则会在热交换器内的构造物上附着有机物从而发生堵塞，因此需要在对排出气体进行催化处理而分解出有机物之后，再导向热交换器。关于在对从炉内排出的排气进行催化处理之后再导入热交换器的技术，例如在专利文献1中也已经公开。

专利文献1：JP特开2001-201271号公报。

然而，在现有技术中，为了减少排气管道中的通气障碍，将催化剂形成为格子状的板状构件，由此排出气体与催化剂之间的接触效率低，分解效率也随之降低。尤其是，以微粒形状通过的有机物以及衍生物固化后形成的物质分解极其困难。而且，排气的温度低下，从而分解效率也随之降低。因此，其结果是总体上有机物的分解效率会降低。

从而，即使对从玻璃基板的烧成炉排出的气体进行催化处理，也不能充分地去除有机物，其结果是在较短的时间内因附着物而堵塞热交换器，最终不能长时间地连续运转，从而装置的运转率降低，非常不经济。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种基板热处理炉，通过加热处理能够高效率地分解所排出的热风中含有的有机物。

为了解决上述问题，在本发明的技术方案1是一种基板热处理炉，对基板进行加热处理，其特征在于，具有：炉体主体部，其用于在内部容置基板，导出部，其用于将从所述炉体主体部排出的热风的至少一部分导出至比所述热风的温度低的部分，过滤器，其设置在所述导出部，并且该过滤器担载有催化剂；通过所述过滤器对导出至所述导出部中的所述热风所包含的有机物进行分解。

而且，本发明的技术方案2是根据本发明的技术方案1的基板热处理炉，其特征在于，所述过滤器是金属过滤器，并且该基板热处理炉附设有加热装置，所述加热装置对所述过滤器和被导入所述过滤器内的热风中的至少一方进行加热。

另外，本发明的技术方案3是根据技术方案1所述的基板热处理炉，其特征在于，所述过滤器是金属过滤器，并且该基板热处理炉附设有加热装置，所述加热装置对所述过滤器和被导入所述过滤器内的热风中的至少一方进行加热。

此外，本发明的技术方案4是根据技术方案1所述的基板热处理炉，其特征在于，具有至少包围所述炉体主体部的框体，并且在该框体外设置所述过滤器。

而且，本发明的技术方案5是根据技术方案1所述的基板热处理炉，其特征在于，具有至少包围所述炉体主体部及所述过滤器的框体。

另外，本发明的技术方案6是根据技术方案1所述的基板热处理炉，其特征在于，所述催化剂包含光催化剂。

此外，本发明的技术方案7是根据技术方案6所述的基板热处理炉，其特征在于，所述光催化剂包含钛氧化物。

而且，本发明的技术方案8是根据技术方案7所述的基板热处理炉，其特征在于，还具有向所述光催化剂照射光的光照射装置。

另外，本发明的技术方案9是根据技术方案1所述的基板热处理炉，其特征在于，所述催化剂包含铂。