[发明专利]触控面板及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200810146812.1 申请日: 2008-08-25
公开(公告)号: CN101661345A 公开(公告)日: 2010-03-03
发明(设计)人: 曾馨贤 申请(专利权)人: 时纬科技股份有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041;B32B7/02;B32B9/00
代理公司: 北京市浩天知识产权代理事务所 代理人: 许志勇
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 面板 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本案是指一种触控面板及其制造方法,尤指一种调整光学色座标值的触控面板及其制造方法。

背景技术

配置在各种显示器上的触控面板,由于其使用的方便性,已成为相当普及的技术,运用在诸如手机、PDA、ATM、售票系统等装置。已知的触控面板具有多层结构,例如电阻式触控面板包括透明薄膜或玻璃所成的基材、镀于基板上的金属导电膜(材质通常是氧化铟锡)、介于两导电膜间的点隔片(Dot Spacer)等,由于材料选用上的限制,加上多层薄膜的层迭,使材料中的杂质或材料本身会吸收可见光中的蓝紫光,这导致触控面板结构所呈现的光学特性,会使透过触控面板的光线会有偏黄的现象,也就是一般所说的L*a*b*色彩空间(Lab color space)的b值偏高,如此一来会导致显示器的画面受到影响,造成原显示画面的失真而造成使用者的不便,使制品品质降低。

以往为解决此问题,面板制造商需花费大量金钱与时间,试图从材料与制程来改变触控面板的光学特性,搜寻或研发不易影响透过光线呈色的方法。但这样的方案却使得产品制造成本过高,材料受限较大,显然不利于市场竞争。

因此,申请人鉴于已知技术中所产生的缺失,经过悉心试验与研究,并一本锲而不舍的精神,终构思出本案“触控面板及其制造方法”,能够克服上述缺点,以下为本案的简要说明。

发明内容

本案发明人在反复思考后提出本发明的触控面板及其制造方法。当依本发明所揭露的制造方法进行触控面板的生产时,整体的制造过程只需要控制一光学镀膜的L*a*b*色彩空间(Lab color space)的b值为负数,而制造的触控面板就能够维持整体的b值在-0.5~0.5之间。本发明所提出的触控面板及其制造方法能够提高生产效能,并降低生产成本。

根据本发明的构想,提出一种触控面板,其包括一第一基板;一第一导电层,设于该第一基板上;一间隔层,设于该第一导电层上;一第二导电层,设于该间隔层上;一第二基板,设于该第二导电层上;及一光学镀膜,设于该第一基板与该第一导电层之间与该第二基板与该第二导电层之间任选其一,其L*a*b*色彩空间(Lab color space)的b值为负数,而该触控面板的b值介于-0.5~0.5之间。

较佳地,本发明所提供的该种触控面板,其中该第一基板与该第二基板为一透明绝缘薄膜。

较佳地,本发明所提供的该种触控面板,其中该第一导电层与该第二导电层为一透明导电薄膜。

较佳地,本发明所提供的该种触控面板,其中该第一导电层与该第二该导电层的材质是为一金属氧化物。

较佳地,本发明所提供的该种触控面板,其中该光学镀膜的折射率是小于该第一导电层与第二导电层的折射率。

较佳地,本发明所提供的该种触控面板,其中该光学镀膜设于该第一基板下。

较佳地,本发明所提供的该种触控面板,其中该光学镀膜设于该第二基板上。

较佳地,本发明所提供的该种触控面板,其中该光学镀膜的材质是为一有机化合物、一无机化合物及其该有机化合物与该无机化合物所成的一混合物三者任选其一。

较佳地,本发明所提供的该种触控面板,其中该无机化合物是为金属氧化物、金属氟化物任选其一。

又根据本发明的构想,提出一种触控面板的制造方法,其步骤包括:提供一第一基板;形成一第一导电层于该第一基板上;形成一间隔层于该第一导电层上;形成一第二导电层于该间隔层上;形成一第二基板于该第二导电层上;及形成L*a*b*色彩空间的b值为负数的一光学镀膜于该第一基板与该第一导电层之间与该第二基板与该第二导电层之间任选其一,调整该触控面板的b值介于-0.5~0.5之间。

较佳地,本发明所提供的该种触控面板的制造方法,该光学镀膜是采用蒸镀法、溅镀法、电镀法、化学气相沉积法、湿式涂布法任选其一。

较佳地,本发明所提供的该种触控面板的制造方法,其中该步骤更包括形成L*a*b*色彩空间的b值为负数的一光学镀膜于该第一基板下,调整该触控面板的b值介于-0.5~0.5之间。

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