[发明专利]触控面板及其制造方法

权利要求书

1.一种触控面板，其包括：

一第一基板；

一第一导电层，设于该第一基板上；

一间隔层，设于该第一导电层上；

一第二导电层，设于该间隔层上；

一第二基板，设于该第二导电层上；及

一光学镀膜，设于该第一基板与该第一导电层之间与该第二基板与该第二导电层之间任选其一，其L*a*b*色彩空间的b值为负数，而该触控面板的b值介于-0.5～0.5之间。

2.如权利要求1所述的触控面板，其中该第一基板与该第二基板为一透明绝缘薄膜。

3.如权利要求1所述的触控面板，其中：

该第一导电层与该第二导电层为一透明导电薄膜；及/或

该第一导电层与该第二该导电层的材质是为一金属氧化物。

4.如权利要求1所述的触控面板，其中该光学镀膜的最小反射率波长在380～500nm的范围内。

5.如权利要求1所述的触控面板，其中：

该光学镀膜设于该第一基板下；或

该光学镀膜设于该第二基板上。

6.如权利要求1所述的触控面板，其中该光学镀膜的材质是为一有机化合物、一无机化合物及其该有机化合物与该无机化合物所成的一混合物三者任选其一，而该无机化合物是为金属氧化物、金属氟化物任选其一。

7.一种触控面板的制造方法，其步骤包括：

(a)提供一第一基板；

(b)形成一第一导电层于该第一基板上；

(c)形成一间隔层于该第一导电层上；

(d)形成一第二导电层于该间隔层上；

(e)形成一第二基板于该第二导电层上；及

(f)形成L*a*b*色彩空间的b值为负数的一光学镀膜于该第一基板与该第一导电层之间与该第二基板与该第二导电层之间任选其一，调整该触控面板的b值介于-0.5～0.5之间。

8.如权利要求7所述的方法，其中该光学镀膜是采用蒸镀法、溅镀法、电镀法、化学气相沉积法、湿式涂布法任选其一。

9.如权利要求8所述的方法，其中：

步骤(f)更包括形成L*a*b*色彩空间的b值为负数的一光学镀膜于该第一基板下，调整该触控面板的b值介于-0.5～0.5之间；或

步骤(f)更包括形成L*a*b*色彩空间的b值为负数的一光学镀膜于该第二基板上，调整该触控面板的b值介于-0.5～0.5之间。

10.一种触控面板，其包括：

一基板；

一导电层，设于该基板上；及

一光学镀膜，设于该基板与该导电层之间，其L*a*b*色彩空间的b值为负数，而该触控面板的b值介于-0.5～0.5之间。

11.一种触控面板的制造方法，其步骤包括：

(a)提供一基板；

(b)形成一导电层于该基板上；及

(c)形成L*a*b*色彩空间的b值为负数的一光学镀膜于该基板与该导电层之间，调整该触控面板的b值介于-0.5～0.5之间。