[发明专利]含有可光化固化基团的低粘度脲基甲酸酯的制备方法

权利要求书

1.制备辐射固化脲基甲酸酯的方法，所述辐射固化脲基甲酸酯的 残余单体含量小于0.5重量％并且NCO含量小于1重量％，该方法包 括：

1)通过使以下物质进行反应制备具有辐射固化基团的含NCO-基团 的氨基甲酸酯：

A)一种或多种含异氰酸酯基团的化合物，

B)一种或多种羟基官能的化合物，其含有当暴露于光化辐射时通 过聚合与烯属不饱和化合物反应的基团，即辐射固化基团，和

C)任选的含有NCO-反应性基团的进一步的化合物；

D)任选地，在催化剂的存在下

2)同时或随后，在以下物质的存在下，不进一步加入含异氰酸酯基 团的化合物，使所述具有辐射固化基团的含NCO基团的氨基甲酸酯反 应：

E)辛酸锌，和，

F)叔胺，

A)中化合物的NCO基团与B)和如果使用的话C)中化合物的OH 基团的比例为1.45∶1.0至1.1∶1.0，

其中所述叔胺包含至少九个碳原子，且不含有其它的官能度。

2.根据权利要求1的制备辐射固化脲基甲酸酯的方法，其中组分 A)包含选自六亚甲基二异氰酸酯(HDI)、异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)、 4，4′-二异氰酸根合二环己基甲烷及它们的混合物的化合物。

3.根据权利要求1的制备辐射固化脲基甲酸酯的方法，其中组分 B)包含选自(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸羟丙酯、(甲基)丙烯酸 羟丁酯及它们的混合物的化合物。

4.根据权利要求1的制备辐射固化脲基甲酸酯的方法，其中A) 中化合物的NCO基团与B)和如果使用的话C)中化合物的OH基团的 比例为1.35∶1.0至1.3∶1.0。

5.根据权利要求1的制备辐射固化脲基甲酸酯的方法，其中脲基 甲酸酯化反应进行到反应产物的NCO含量低于0.2重量％。

6.由根据权利要求1的方法得到的辐射固化脲基甲酸酯。

7.包含根据权利要求6的辐射固化脲基甲酸酯的组合物，该组合 物选自涂料、涂料材料、粘合剂、印刷油墨、铸模树脂、牙用料、胶 料、光致抗蚀剂、立体光刻系统、用于复合材料的树脂和密封剂。

8.涂料组合物，其包含

a)一种或多种根据权利要求6的辐射固化脲基甲酸酯，

b)任选的一种或多种含游离或被保护的异氰酸酯基团的多异氰酸 酯，其不含当暴露于光化辐射时通过聚合与烯属不饱和化合物反应的 基团，

c)任选的不同于a)中那些的其它化合物，其含有当暴露于光化辐射 时通过聚合与烯属不饱和化合物反应的基团，且任选含有游离或被保 护的NCO基团，

d)任选的一种或多种含活性氢的异氰酸酯反应性化合物，

e)一种或多种引发剂，

f)任选的溶剂，和

g)任选的助剂和添加剂。

9.用从根据权利要求6的辐射固化脲基甲酸酯得到的涂料涂覆的 基材。