[发明专利]采用光路变更部件的处理盒的间隔测定方法以及用该测定方法测定的处理盒无效
| 申请号： | 200810134750.2 | 申请日： | 2008-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN101373368A | 公开（公告）日： | 2009-02-25 |
| 发明（设计）人： | 莿木正史;昆诚 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达商用科技株式会社 |
| 主分类号： | G03G21/18 | 分类号： | G03G21/18;G03G21/00;G03G15/00;G01B11/14 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 雒运朴;李伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用光 变更 部件 处理 间隔 测定 方法 以及 | ||
1.一种对于至少备有像载置体和显影剂载置体的处理盒，采用发光元件和受光元件，测定所述像载置体和所述显影剂载置体之间间隔的处理盒的间隔测定方法，其特征在于，
通过光路变更部件使从所述发光元件发出的光的光路改变，且使所述光穿过所述像载置体和所述显影剂载置体之间，来测定所述间隔。
2.权利要求1中记载的处理盒的间隔测定方法，其特征在于，采用多个所述光路变更部件测定所述间隔。
3.权利要求1或2中记载的处理盒的间隔测定方法，其特征在于，采用装有所述处理盒以及所述光路变更部件的测定夹具，来测定所述间隔。
4.权利要求3中记载的处理盒的间隔测定方法，其特征在于，在装有所述处理盒以及所述光路变更部件的所述测定夹具上，装上所述发光元件以及所述受光元件，来测定所述间隔。
5.权利要求1至4的任何一项中记载的处理盒的间隔测定方法，其特征在于，所述光路变更部件是面镜或棱镜。
6.权利要求5中记载的处理盒的间隔测定方法，其特征在于，所述面镜或棱镜具有面精度在0.02μm以上、0.24μm以下的反射面。
7.一种处理盒，其特征在于，用权利要求1至6的任何一项中记载的处理盒的间隔测定方法，测定所述像载置体和所述显影剂载置体之间的间隔。
8.一种处理盒，其特征在于，内藏权利要求1或2中记载的处理盒的间隔测定方法中记载的所述光路变更部件。
9.权利要求8中记载的处理盒，其特征在于，所述光路变更部件是面镜或棱镜。
10.权利要求9中记载的处理盒，其特征在于，所述面镜或所述棱镜具有面精度在0.02μm以上、0.24μm以下的反射面。
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