[发明专利]反力处理装置无效
| 申请号: | 200810131151.5 | 申请日: | 2008-07-30 |
| 公开(公告)号: | CN101359184A | 公开(公告)日: | 2009-02-04 |
| 发明(设计)人: | 细畠拓也 | 申请(专利权)人: | 住友重机械工业株式会社 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/683;H01L21/67;G12B5/00 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 陈萍 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 处理 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种反力处理装置,用于提高移动载物台装置中的载物台的稳定性。
背景技术
以往,例如作为半导体或者液晶的曝光装置而使用有移动载物台装置,该移动载物台装置具备:定盘,具有高度互不相同的多个盘面,并且隔着减振部设置在基座上;和多个载物台,在该定盘的各个盘面上移动。在这种移动载物台装置中,例如为了提高单位时间的处理量,而要求载物台的高调速化。但是,当使载物台高调速化时,由于载物台的移动而对定盘产生的反力增大,载物台的稳定性可能恶化。
因此,近年开发了例如特开2000-40650号公报所记载的反力处理装置。在该反力处理装置中,通过第1施加装置(力促动器)以及第2施加装置(水平力促动器)分别对定盘(镜筒定盘以及刻度线载物台定盘)施加用于抵消反力的力(可变的推力),由此可实现抵消由于多个载物台(刻度线载物台和晶片载物台)的移动对定盘产生的多个反力。
然而,为了抑制在反力的影响下在定盘上产生力矩,通常使反力的作用点高度和用于抵消反力的力的作用点高度相互一致。因此,在上述的反力处理装置中,为了使施加的力的作用点高度与多个反力的作用点高度一致,在移动载物台装置上设置有多个施加装置。但是,在反力的作用点高度较高的情况下,需要将施加装置设置在较高的位置上,反力处理装置可能被大型化。
发明内容
因此,本发明的课题是提供一种可以抑制大型化的反力处理装置。
为了解决上述课题,本发明的反力处理装置为,设置在载物台装置上,用于处理由于载物台的移动而对定盘产生的多个反力,上述载物台装置具备:定盘,具有高度互不相同的多个盘面,并且隔着减振部设置在基座上;和多个载物台,分别设置在盘面上并在该盘面上移动;该反力处理装置的特征为,具备:第1和第2力施加装置,对定盘分别施加用于对多个反力进行协作处理的第1和第2力;以及控制第1和第2力的大小的控制装置;定盘上的第1和第2力的作用点高度相互不同,控制装置以使多个反力作为合力以及合力矩而抵消的方式控制第1和第2力。
在该反力处理装置中,定盘上的第1和第2力的作用点高度相互不同。并且,控制装置以使多个反力作为合力以及合力矩而抵消的方式控制第1和第2力。因此,在多个载物台在高度互不相同的多个盘面的各自上移动时,为了不在定盘上产生力矩,不需要使施加的力的作用点高度分别与在定盘上产生的多个反力的作用点高度一致。即,在多个载物台在多个盘面的各自上移动时,即使在定盘上产生多个反力,也可仅通过第1和第2施加装置来处理这些反力。与此同时,只要是高度互不相同的位置、可以将第1和第2施加装置配置在自由的位置上。结果,能够抑制反力处理装置的大型化,进一步可抑制移动载物台装置的大型化。
这里,第1和第2施加装置优选以被定盘覆盖的方式设置在该定盘盘面和基座之间。此时,充分确保定盘盘面的空间,并且控制移动载物台装置的设置面积(所谓“足迹”)的增大。因此,能够有效利用移动载物台装置的空间,并可进一步抑制移动载物台装置的大型化。
并且,也可以将第1施加装置和第2施加装置中的至少一个设置于定盘底面和基座之间。
本发明的反力处理装置为,设置在载物台装置上,用于处理由于载物台的移动而对定盘产生的多个反力,该载物台装置具备:具有高度不同的多个盘面的定盘;和在盘面上移动的多个载物台;该反力处理装置的特征为,具备:对定盘分别施加第1和第2力的第1和第2力促动器;以及控制第1和第2力的大小的控制装置;定盘上的第1和第2力的作用点高度相互不同,控制装置将多个反力、第1和第2力运算为与载物台装置的重心相关的力,根据该运算结果处理多个反力。
此时,优选控制装置具备进行载物台的驱动控制和控制第1及第2促动器这两者的控制器,并根据用于载物台的驱动控制的驱动指令而算出第1及第2促动器的推力。
附图说明
图1是表示本发明第1实施方式的反力处理装置的截面的概略构成图。
图2是表示图1的移动载物台装置的力学模型的图。
图3是表示本发明第2实施方式的反力处理装置的截面的概略构成图。
具体实施方式
下面参照附图对本发明的优选实施方式进行详细说明。另外,在附图说明中对相同或者相当的要素赋予同一符号,并省略重复说明。
首先,对包括本发明第1实施方式的反力处理装置的移动载物台装置进行说明。图1是表示包括本发明第1实施方式的反力处理装置的移动载物台装置的截面的概略构成图。如图1所示,移动载物台装置10,例如被采用作为半导体的曝光装置,具备定盘11、载物台12以及反力处理装置1。
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