[发明专利]光电装置及其制造方法有效
| 申请号: | 200810130312.9 | 申请日: | 2008-07-04 |
| 公开(公告)号: | CN101621098A | 公开(公告)日: | 2010-01-06 |
| 发明(设计)人: | 富振华;吕根泉;王冠儒 | 申请(专利权)人: | 泰谷光电科技股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 赵蓉民 |
| 地址: | 台湾省南投*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光电 装置 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种半导体元件及其制造方法,特别涉及一种光电装 置及其制造方法。
背景技术
目前,常见的光电装置如发光二极管(light-emitting diode,LED) 是由周期表中三族、五族的半导体材料制作而成的发光元件,其具有 体积小、亮度高、发热量低、耗电量低、没有辐射、不含水银、寿命 长、反应速度快以及可靠度高等优点,因而其应用范围遍及日常生活 中的各项用品,如家电制品及各式仪器的指示灯或光源等。近来由于 多色彩及高亮度化的发展应用范围已朝向户外显示器发展,而红蓝绿 为全彩显示的三原色,因而制作高效率的蓝色及绿色发光二极管是不 可或缺的要件。
请参照图1所示,一种公知发光二极管元件的制造方法包含:将 一半导体发光结构12形成于一基板11。其中,基板11为一蓝宝石材 质基板,而半导体发光结构12为氮化镓(GaN)化合物所构成,并以 一有机金属化学气相沉积法(MOCVD)磊晶形成于基板11上。半导 体发光结构12形成后具有一离基板11较近的氮极性侧(N-polar)N 以及一离基板较远的镓极性侧(Ga-polar)G。接着,电镀一金属层13 于半导体发光结构12上以作为替代基板。接着,以雷射去除(laser lift-off)基板11之后,翻转半导体发光结构12及金属层13。最后,在 光电元件12上设置一外部电极14以形成一发光二极管元件1。于此, 替代基板可以解决因蓝宝石基板导致的散热不佳的问题。
然而,发光二极管元件及其工艺虽解决蓝宝石基板散热不佳的问 题,但却衍生金属电极与光电元件之间所产生的欧姆电阻或注入电流 过于集中等问题,另外,发光二极管整体发光效率也无法有效提升。
因此,如何提供一种光电装置及其制造方法使光电装置具有良好 的欧姆接触并具有均匀电流分布及提高发光效率,已成为重要课题之 一。
发明内容
有鉴于上述课题,本发明的目的是提供一种能够同时具有良好的 欧姆接触、均匀的电流分布及高反射率结构的光电装置及其制造方法。
为达上述目的,依据本发明的一种光电装置的制造方法包含形成 一光电元件于一基板;形成一反射欧姆接触膜于光电元件上,其中反 射欧姆接触膜具有一图案介电层及一第一导电层,图案介电层与第一 导电层沉积于光电元件的上方;以及形成一第二导电层于反射欧姆接 触膜上。
为达上述目的,依据本发明的一种光电装置包含一光电元件、一 反射欧姆接触膜以及一第二导电层。反射欧姆接触膜位于光电元件上, 反射欧姆接触膜具有一图案介电层及一第一导电层。图案介电层与第 一导电层沉积于光电元件的上方。第二导电层位于反射欧姆接触膜上。
承上所述,依据本发明的一种光电装置及其制造方法中,反射欧 姆接触膜的图案介电层及第一导电层是沉积于光电元件的上方,第一 导电层不仅与光电元件具有良好的欧姆接触特性并可作为光线反射 层,而图案介电层可作为电流阻障层以避免注入电流过于集中在两个 电极的最短直线路径,因此,光电装置整体的发光效率得以提升。
附图说明
图1为一种公知光电装置的制造方法的示意图;
图2是依据本发明第一实施例的一种光电装置的制造方法的流程 图;
图3是依据本发明第一实施例的一种光电装置的制造方法的示意 图;
图4是依据本发明第二实施例的一种光电装置的制造方法的流程 图;
图5是依据本发明第二实施例的一种光电装置的制造方法的示意 图;
图6是依据本发明第三实施例的一种光电装置的制造方法的流程 图;
图7是依据本发明第三实施例的一种光电装置的制造方法的示意 图;
图8是依据本发明第四实施例的一种光电装置的制造方法的流程 图;
图9是依据本发明第四实施例的一种光电装置的制造方法的示意 图;
图10及图11是依据本发明第五实施例的一种光电装置的示意图;
图12至图15是依据本发明第六实施例的一种光电装置的示意图; 以及
图16是依据本发明第七实施例的一种光电装置的示意图。
主要元件符号说明:
1:光电二极管元件
11、21、31、41、51、91:基板
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