[发明专利]基板处理装置以及基板搬送装置有效
申请号: | 200810124849.4 | 申请日: | 2008-06-23 |
公开(公告)号: | CN101329995A | 公开(公告)日: | 2008-12-24 |
发明(设计)人: | 中山秀树;山田洋平 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/677;B65G47/74;B65G47/90 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘春成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 以及 基板搬送 | ||
1.一种基板处理装置,包括:
对基板载置台上的基板实施规定处理的处理腔室;
向所述基板载置台搬送基板的基板搬送装置;和
收容所述基板搬送装置,并且与所述处理腔室连接的搬送室,
所述基板处理装置的特征在于:
所述基板搬送装置包括:
在支撑有基板的状态下进入到所述处理腔室内向所述基板载置台 搬送基板的拾取器;和驱动拾取器的主驱动机构,
所述拾取器包括:
基部;从所述基部呈分叉状延伸的、用于支撑基板的多个支撑部 件;和使这些支撑部件伸缩动作的副驱动机构,在所述支撑部件伸出 的状态下搬送基板。
2.如权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于:
所述支撑部件包括:与所述基部连接的第一部件;和相对于所述 第一部件能够进出退避地设置的第二部件,
所述副驱动机构驱动所述第二部件。
3.如权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于:
所述副驱动机构与利用所述主驱动机构进行的所述拾取器的滑动 移动相连动,进出驱动所述第二部件。
4.如权利要求3所述的基板处理装置,其特征在于:
所述基板搬送装置还具有所述拾取器能够滑动的基体,所述拾取 器在所述基体上滑动,能够从所述搬送室进入到所述处理腔室内。
5.如权利要求4所述的基板处理装置,其特征在于:
所述第二部件为多个,
所述拾取器具有连接多个所述第二部件的连接部,
所述副驱动机构包括:
第一滑轮,其从所述基部或者所述第一部件向着所述基体被悬挂, 随着所述拾取器的滑动移动而旋转;
第二滑轮,其被配置在所述基部或者第一部件上,随着所述第一 滑轮的旋转而旋转;
第三滑轮,其被配置在所述基部或者第一部件上,随着所述第二 滑轮的旋转而通过带来进行旋转;和
夹具部件,其被设置在所述带上,与所述第二部件机械连接,随 着所述带的移动而移动,从而使多个所述第二部件一起移动。
6.如权利要求5所述的基板处理装置,其特征在于:
在所述第一滑轮和所述第二滑轮之间插入安装有减速机。
7.如权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于:
所述副驱动机构独立于所述拾取器的移动来进退驱动所述第二部 件。
8.如权利要求7所述的基板处理装置,其特征在于:
所述副驱动机构包括:
配置在所述基部或者所述第一部件上,具有伸缩杆的伸缩用缸体;
配置在所述基部或者所述第一部件上,随着所述伸缩杆的移动而 旋转的第四滑轮;
配置在所述基部或者所述第一部件上,随着所述第四滑轮的旋转 而通过带来进行旋转的第五滑轮;和
夹具部件,其被设置在所述带上,与所述第二部件机械连接,随 着所述带的移动而移动,从而使所述第二部件移动。
9.如权利要求8所述的基板处理装置,其特征在于:
所述第四滑轮包括:
随着所述伸缩杆的移动而旋转的小滑轮;和
与所述小滑轮一起旋转,并且搭挂有所述带的大滑轮。
10.如权利要求7所述的基板处理装置,其特征在于:
所述副驱动机构具有伸缩用缸体,该伸缩用缸体被配置在所述基 部或者所述第一部件上,并且具有伸缩杆,该伸缩杆使所述第二部件 移动,使得所述第二部件从所述第一部件进出,并返回到所述第一部 件上。
11.如权利要求7所述的基板处理装置,其特征在于:
所述副驱动机构包括:
波纹管,通过导入加压的气体,从所述第一部件突出,并伴随着 其使所述第二部件从所述第一部件上进出;和
弹簧,当所述波纹管的内部被减压时,弹性地进行施力,使得所 述第二部件返回到所述第一部件上。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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