[发明专利]基片传输装置及其控制系统和控制方法有效
| 申请号: | 200810117610.4 | 申请日: | 2008-08-01 |
| 公开(公告)号: | CN101640166A | 公开(公告)日: | 2010-02-03 |
| 发明(设计)人: | 张金斌 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/02;H01L21/677;G05B19/04 |
| 代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人: | 赵镇勇 |
| 地址: | 100016北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 传输 装置 及其 控制系统 控制 方法 | ||
1.一种基片传输装置,包括负载端口,其特征在于,所述负载端口中设有闭锁器端 口面板高度检测装置,所述锁闭器端口面板与负载锁闭器的腔室内的机械手臂连接。
2.根据权利要求1所述的基片传输装置,其特征在于,所述闭锁器端口面板高度检测 装置为激光传感器。
3.根据权利要求2所述的基片传输装置,其特征在于,所述激光传感器包括相对设置 的发射器和接收器。
4.根据权利要求3所述的基片传输装置,其特征在于,所述发射器和接收器分别设于 所述负载端口的相对的两侧壁上,所述发射器的发射光束平行于所述闭锁器端口面板的底 面。
5.根据权利要求4所述的基片传输装置,其特征在于,所述发射器和接收器分别设有 高度调节装置。
6.根据权利要求1所述的基片传输装置,其特征在于,所述闭锁器端口面板高度检测 装置为激光测距器。
7.根据权利要求6所述的基片传输装置,其特征在于,所述激光测距器设于所述闭锁 器端口面板的下方,且所述激光测距器的发射光束垂直于所述闭锁器端口面板的底面。
8.一种基片传输控制系统,包括控制单元,其特征在于,权利要求1至7任一项所述 的基片传输装置的闭锁器端口面板高度检测装置的检测信号传输给所述控制单元,所述控 制单元根据接收到的检测信号控制基片升降驱动装置的运行或停止。
9.根据权利要求8所述的基片传输控制系统,其特征在于,所述闭锁器端口面板高度 检测装置为激光传感器,所述激光传感器包括相对设置的发射器和接收器,当所述发射器 的发射光束被所述闭锁器端口面板挡住时,所述控制单元控制基片升降驱动装置停止。
10.根据权利要求8所述的基片传输控制系统,其特征在于,所述闭锁器端口面板高 度检测装置为激光测距器,当所述激光测距器检测到所述闭锁器端口面板的高度低于设定 的阈值时,所述控制单元控制基片升降驱动装置停止。
11.一种权利要求1至7任一项所述的基片传输装置的控制方法,其特征在于,包括步 骤:
首先,检测闭锁器端口面板的高度变化信息;
然后,根据所述高度变化信息控制基片升降驱动装置的运行或停止。
12.根据权利要求11所述的基片传输装置的控制方法,其特征在于,所述高度变化信 息包括所述闭锁器端口面板下方的激光束是否被挡住或所述闭锁器端口面板的高度是否低 于设定的阈值。
13.根据权利要求12所述的基片传输装置的控制方法,其特征在于,当所述闭锁器端 口面板下方的激光束被挡住或所述闭锁器端口面板的高度低于设定的阈值时,所述基片升 降驱动装置停止运行。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





