[发明专利]曝光设备焦距监测方法

权利要求书

1.一种扫描式曝光设备焦距在线监测的方法，其特征在于，包括：

提供具有基准标记的掩模板，所述具有基准标记的掩模板上具有产 品的某一层的图案，通过光刻工艺和刻蚀工艺，将所述基准标记转移到 基底上，在所述基底上形成基准标记图案；

提供具有测试标记的掩模板，所述具有测试标记的掩模板上具有产 品另外一层的图案；

在具有所述基准标记图案的基底上形成光刻胶层，利用所述的曝光 设备执行光刻工艺，将所述测试标记转移到所述光刻胶层中，形成测试 标记图案；

测量所述测试标记图案与基准标记图案的偏移量，其中，所述基准 标记和测试标记为中心重合的套刻标记，所述偏移量为测试标记图案与 基准标记图案的中心偏移量，所述测试标记和基准标记形成于具有产品 图案的掩模板的外围，所述监测方法与产品的光刻步骤同时进行；

若所述的偏移量不等于目标值，则所述曝光设备偏离最佳曝光位 置；

所述方法进一步包括：根据所述偏移量与曝光设备焦距的对应关 系，获得曝光设备的实际焦距。

2.如权利要求1所述的扫描式曝光设备焦距在线监测的方法，其 特征在于，进一步包括：判断所述偏移量是否超出目标值的阈值范围， 若是，则需要停止曝光设备工作。

3.如权利要求1所述的扫描式曝光设备焦距在线监测的方法，其 特征在于：通过套刻测量设备测量所述偏移量。