[发明专利]电注入调控三基色单芯片白光发光二极管有效
| 申请号: | 200810111710.6 | 申请日: | 2008-05-16 |
| 公开(公告)号: | CN101582418A | 公开(公告)日: | 2009-11-18 |
| 发明(设计)人: | 张国义;杨志坚;方浩;陶岳彬;桑立雯;李丁;童玉珍 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
| 主分类号: | H01L25/075 | 分类号: | H01L25/075;H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 李稚婷 |
| 地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 注入 调控 基色 芯片 白光 发光二极管 | ||
技术领域
本发明涉及半导体照明领域和金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术领域,尤其涉 及一种单芯片白光发光二极管(LED)器件。
背景技术
目前,国内乃至国际上实现白光LED的主流方法仍然是以下三种。其中之一是采用 GaN基蓝光、绿光和GaAs基红光LED构成三基色完备发光体系。把这三种颜色的LED 按一定的比例封装在一起就可以得到用于照明用途的白光。这种方法封装的每一个芯片都 需要独立的驱动电路,因此控制电路相对复杂,成本高。另外一种,也是最为常见的是GaN 基蓝光LED利用荧光粉转换方法。这种方法是在高亮度GaN基蓝光LED的表面均匀涂抹 荧光粉和透明树脂,LED辐射出峰值为470nm左右的蓝光,而部分蓝光激发荧光粉发出峰 值为570nm左右的黄绿光,与另一部分透射出来的蓝光通过微透镜聚焦组成白光。这种方 法由于荧光粉长时间处于LED光直射的高温状态引起性能退化,使白光LED的效率下降 和光谱改变。类似于蓝光激发荧光粉的方法,有人提出了用GaN基紫外光LED辐射的紫 外光去激发荧光粉得到白光的方法。这种方法存在的主要问题是由于低掺杂效率和低量子 效率,高性能的紫外光LED是很难得到的,另外,荧光粉以及抗紫外光退化的封装材料都 有待深一步研究。
如中国专利(申请)200320117244.5,200410081198.7等,都属于利用上述三种途径 之一制备白光LED的方法。
发明内容
本发明的目的在于提供一种电路简单,无需荧光粉,较高光电转化效率的单芯片白光 LED。
本发明的技术方案是:
一种电注入调控三基色的白光LED,在衬底的一侧依次叠加第一n型欧姆接触层、绿 光有源层、p型欧姆接触层、蓝光有源层和第二n型欧姆接触层,或者依次叠加第一p型 欧姆接触层、绿光有源层、n型欧姆接触层、蓝光有源层和第二p型欧姆接触层,在衬底 的另一侧键合红光LED。
上述绿光有源层为发射波长在绿光波段的量子阱,所述量子阱可为InGaN或AlInGaN 量子阱。所述量子阱的周期数可为1~20,每个周期中,阱的厚度可为1nm~5nm之间, 垒的厚度可为6nm~20nm之间。
上述蓝光有源层为发射波长在蓝光波段的量子阱,所述量子阱可为InGaN或AlInGaN 量子阱。所述量子阱的周期数可为1~20,每个周期中,阱的厚度可为1nm~5nm之间, 垒的厚度可为6nm~20nm之间。
上述绿光有源层和蓝光有源层共用一个p型欧姆接触层或n型欧姆接触层。
上述n型欧姆接触层材料为n型GaN,厚度为300nm~1500nm,一般是掺杂Si的GaN 层,其中Si的掺杂浓度为1.0×1018cm-3~1.0×1020cm-3。
上述p型欧姆接触层材料为p型GaN,厚度为300nm~1500nm,一般是掺杂Mg的 GaN层,其中Mg的掺杂浓度为1.0×1017cm-3~1.0×1019cm-3。
上述红光LED是InP基的红光LED。
在上述LED器件的n型和p型欧姆接触层上制作出接触电极就可以通过控制各对电极 之间的电流、电压的大小控制蓝光、绿光和红光量子阱的发光强度,这相当于三个各自独 立的光源。调节三个光源强度的比例,根据标准色度分布图可以得到各种色度的白光。本 发明的LED器件只需单一芯片即可发出白色光,而且器件的电路简单,无需荧光粉,寿命 长,具有较高的光电转化效率,是一种理想的替代现有的白炽灯和荧光灯等照明光源的新 产品,同时也将会在光调控和全色显示领域发挥重要作用。
附图说明
图1是本发明实施例1制备的GaN基白光LED的结构示意图。
图2是本发明实施例2制备的GaN基白光LED的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图,通过实施例进一步描述本发明,但不以任何方式限制本发明的范围。
实施例1:
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