[发明专利]氟化剂及使用其的含氟化合物的制造方法有效
| 申请号： | 200810109830.2 | 申请日： | 2004-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN101298436A | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | 萩谷弘寿 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | C07D233/58 | 分类号： | C07D233/58;C07D213/61;C07C17/20;C07C17/093;C07C19/08;C07C22/08 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 李平英 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氟化 使用 制造 方法 | ||
1.下述式(1)所示咪唑盐：
式(1)中，R1和R3各自相同或不同，表示可被选自下述A～I的取代 基组中的至少一种取代基取代的C1-20烷基，R2、R4和R5各自相同或 不同，表示氢原子或可被选自下述A～I的取代基组中的至少一种取代 基取代的C1-20烷基，且x满足0＜x＜1，
Y-表示除了氟化物离子之外的1价阴离子，Y-所示的1价阴离子是卤 化物离子、磺酸离子、硝酸离子或羧酸离子，
A：C1-20的烷氧基以及氟取代的C1-20的烷氧基，
B：C6-20的芳基、以及C1-3的烷基和/或C1-3的烷氧基取代的C6-20 的芳基，
C：C6-20的芳氧基、以及C1-3的烷基和/或C1-3的烷氧基取代的 C6-20的芳氧基，
D：C7-20的芳烷基氧基、以及C1-3的烷基和/或C1-3的烷氧基取代 的C7-20的芳烷基氧基，
E：氟原子，
F：C2-20的烷基羰基，
G：C7-20的芳基羰基、以及C1-3的烷基和/或C1-3的烷氧基取代的 C7-20的芳基羰基，
H：C8-20的芳烷基羰基、以及C1-3的烷基和/或C1-3的烷氧基取代 的C8-20的芳烷基羰基，
I：羧基。
2.下述式(5)所示咪唑盐：
式(5)中，R1和R3各自相同或不同，表示可被选自下述A～I的取代 基组中的至少一种取代基取代的C1-20烷基，R2、R4和R5各自相同或 不同，表示氢原子或可被选自下述A～I的取代基组中的至少一种取代 基取代的C1-20烷基，
Z-表示氯化物离子或溴化物离子，且x满足0＜x＜1，
A：C1-20的烷氧基以及氟取代的C1-20的烷氧基，
B：C6-20的芳基、以及C1-3的烷基和/或C1-3的烷氧基取代的C6-20 的芳基，
C：C6-20的芳氧基、以及C1-3的烷基和/或C1-3的烷氧基取代的 C6-20的芳氧基，
D：C7-20的芳烷基氧基、以及C1-3的烷基和/或C1-3的烷氧基取代 的C7-20的芳烷基氧基，
E：氟原子，
F：C2-20的烷基羰基，
G：C7-20的芳基羰基、以及C1-3的烷基和/或C1-3的烷氧基取代的 C7-20的芳基羰基，
H：C8-20的芳烷基羰基、以及C1-3的烷基和/或C1-3的烷氧基取代 的C8-20的芳烷基羰基，
I：羧基。
3.如权利要求1或2所述的咪唑盐，其中x满足0.4＜x＜0.9。
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